Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093685 à vendre en France

NOVELLUS Concept 2, Altus 2 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), ou chambre, conçu pour déposer des couches minces de matériaux de haute pureté sur la surface d'un substrat. L'Altus 2 est capable de déposer divers matériaux tels que du silicium épitaxial, du poly-silicium, des oxydes, des nitrures et des carbures à des températures élevées allant de 300 ° C à 650 ° C NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 est composé d'une base de module, d'une chambre de process avec circuit intégré, d'un ensemble de porte, d'une alimentation électrique, d'un collecteur de gaz et de divers autres composants. CONCEPT 2 Le réacteur Altus 2 est constitué d'une chambre cylindrique en acier inoxydable, dans laquelle est placé le substrat. Les murs de chambre sont faits de 316L l'acier inoxydable et ont une épaisseur de 4,8 mm. Les parois sont effilées vers l'intérieur vers le fond de la chambre, ce qui permet une répartition efficace de la chaleur. Le substrat repose au-dessus du bloc chauffant en aluminium où il est chauffé jusqu'à la température désirée. Le gaz source est introduit à la partie supérieure de la chambre (à 8 pouces au maximum) par un système de distribution. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 peut fonctionner en mode continu (courant continu) ou en mode RF (fréquence radio). En mode continu, le substrat est maintenu à un potentiel basse tension, permettant la formation d'un film continu de matériau déposé, tandis que le mode RF forme des particules métalliques dans la couche de film. L'alimentation délivre un courant allant jusqu'à 400 A (en mode continu) et peut être ajustée pour faire varier la vitesse de dépôt. Le CONCEPT 2 Altus 2 est doté d'un système intégré de contrôle de débit basé sur la force (FBFC) qui permet une livraison précise des gaz de procédé, tandis que les détecteurs à diodes à mélange gazeux (GM-RAD) surveillent en permanence l'environnement de dépôt. Les paramètres de fonctionnement du réacteur peuvent être ajustés à l'aide du système de commande intégré, permettant de basculer entre différentes recettes de matériaux à déposer. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 dispose également de trois lignes collectrices de gaz supplémentaires permettant d'introduire simultanément jusqu'à trois gaz réactifs dans la chambre. En conclusion, CONCEPT 2 Altus 2 est un réacteur CVD très polyvalent et efficace, capable de déposer des couches minces de matériaux de haute pureté sur des substrats dans des conditions opératoires très contrôlées. Il dispose de plusieurs caractéristiques de conception et de sécurité qui rendent son utilisation à la fois fiable et rentable.