Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093688 à vendre en France
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ID: 9093688
Taille de la plaquette: 8"
Chamber, 8"
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual: Port 2 and 3
WTS (backbone) facilities connection configuration: Bottom facilities installation
Remote interconnect cables: 75 feet
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
DLCM-S:
ROBOT ASSY, MAG7, BISYMMETRIK ARM, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual altus ready
Software/Controls:
Module controller type: 02-272554-00, MC3
System controller type: 2-267883-00, MC3
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0 - IOC - 4.1
2 - IOC - 4.1
3 - IOC - 4.1
Altus IOC:
0 - SIOC - 4.30
1 - SIOC - 4.30
2 - SIOC - 4.30
3 (MPD) - SIOC - 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber configuration:
SHWRHD, 200 mm, Style B: 03-00258-00
ASSY, PED, 200 mm MOER, D.3, SEMI: 02-033134-01
EXCL RING, 200 mm, 2.0 mm OH SEMI: 15-032777-00
Indexer plate, HUB: 15-034848-00
INDEXCER, WF, EXCL, OPTION, 200 mm: 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
OPT ENDPT DET'R, MSTR, ALT-S: 04-0120458-00
Throttle Valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas box configuration (CESCVD02177B):
Manifold A 1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
Manifold A 3: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Manifold B 6: Aera FC-7800CD, C2F6/2 SLM
Manifold B 7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
Manifold D 2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
Manifold H D: Aera FC-7800CD, Ar/20 SLM
Manifold W 4: Aera FC-7800CD. AR/20 SLM
Manifold W 5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
Manifold C 8: Aera FC-7800CD, Ar/10 SLM
Manifold C 9: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 10 TORR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER< HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATER 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Supporting remote units:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, IH1000 - x2 for process pump typical
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, i80 - x2 for pedestal pump typical
(1) TM pump per system: BOC Edwards, i80 - x1 for TM pump typical
(1) LL pump per system, BOC Edwards, i80, x1 for LL pump typical.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 est une technologie de réacteur conçue pour optimiser l'efficacité du traitement industriel. Ce réacteur est un outil de procédé amélioré avec des fonctionnalités qui permettent une meilleure fiabilité, une meilleure précision de traitement et un débit plus rapide. Le réacteur fonctionne sur une large plage de température et offre un certain nombre de caractéristiques utiles pour le secteur industriel. La configuration de base du réacteur CONCEPT 2 Altus 2 comprend plusieurs parties : le corps, la grille, l'émetteur, l'enceinte de commande et le bateau de wafer. Le corps du réacteur est réalisé en un matériau durable pour assurer longévité et sécurité. La grille de ce réacteur est un composant clé - c'est la partie où les ions faiblement énergétiques entrent dans l'équipement. L'émetteur de ce réacteur travaille en liaison avec la grille pour émettre des particules chargées nécessaires au processus de dépôt et de gravure. L'enceinte de commande abrite l'alimentation électrique, le contrôle de la température et les systèmes d'enregistrement des données qui permettent à l'utilisateur d'optimiser le processus. Enfin, le bateau wafer est la pièce qui abrite le matériau cible et permet son transfert dans le système de traitement. Dans le processus de dépôt et de gravure, l'utilisateur doit ajuster la plage de température, les niveaux de puissance et les niveaux de pression. Pour cela, le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 offre un certain nombre de caractéristiques utiles. Le régulateur de température de pointe maintient la température avec précision dans la plage désignée tandis que le régulateur de puissance règle le niveau d'entrée de puissance en fonction des besoins de l'unité. Ce procédé peut également être surveillé et ajusté par la machine d'enregistrement des données disponible avec ce réacteur. Dans l'ensemble, le réacteur CONCEPT 2 Altus 2 est un outil de procédé fiable et efficace avec des caractéristiques utiles pour le traitement industriel. Il assure la précision, la vitesse et la sécurité pendant l'opération de dépôt et de gravure. Ce réacteur fournit également une large gamme de températures pour répondre aux besoins des différentes industries.
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