Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093689 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 est un équipement de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour enrober la surface des dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur CVD est conçu spécifiquement pour les géométries de processus de 20nm et plus, ce qui le rend idéal pour le développement de fonctionnalités dans la mémoire avancée et les dispositifs logiques. La conception unique du réacteur Altus 2 garantit des résultats optimaux pour tous les besoins de dépôt. Le réacteur Altus 2 utilise un système de mouvement de robot linéaire. Cette unité de mouvement permet un dépôt précis de matériaux à une vitesse rapide. La machine à mouvement linéaire accéléré est couplée à un outil de distribution de gaz à haut rendement. Cet atout permet un écoulement rapide des gaz vers la surface du réacteur, permettant des dépôts rapides et précis. Le réacteur Altus 2 est capable d'effectuer plusieurs dépôts simultanément. Il dispose d'une double capacité de source, permettant à la fois le dépôt diélectrique et métallique en même temps, ou plusieurs matériaux différents en même temps. Cela permet un retournement rapide des tâches de dépôt et une réduction du délai de production. Le modèle avancé de contrôle des procédés du réacteur Altus 2 assure un dépôt ininterrompu dans des tolérances serrées. L'équipement peut stocker plusieurs recettes qui peuvent être facilement rappelées pour des changements rapides de processus. La fonctionnalité intégrée « propre et sûre » du réacteur Altus 2 garantit que tout changement de procédé ne contaminera ni n'endommagera les capteurs et autres composants du réacteur. La conception unique du réacteur Altus 2 est optimisée pour une performance maximale et une uniformité de dépôt. Le système de distribution uniforme de gaz breveté assure une uniformité sur toute taille ou forme de substrat. Le mécanisme de chauffage à trois zones du réacteur Altus 2 minimise les dommages thermiques et assure des résultats de processus uniformes au substrat. Le réacteur Altus 2 est conçu avec des caractéristiques de sécurité avancées pour l'utilisateur. Les systèmes de surveillance embarqués du réacteur Altus 2 peuvent détecter et alerter les utilisateurs sur tout problème potentiel de sûreté, permettant une résolution rapide. La conception de la chambre de processus évite les fuites, assurant un environnement sans oxygène pour un fonctionnement sûr du réacteur. Le réacteur Altus 2 CONCEPT 2 est un réacteur CVD de pointe conçu spécifiquement pour les dispositifs semi-conducteurs. Avec sa machine de mouvement linéaire unique, son outil efficace de distribution de gaz et ses moyens avancés de contrôle des processus, le réacteur Altus 2 est un appareil fiable et précis pour tous les besoins de dépôt.