Occasion NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink #9180728 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink est un outil polyvalent pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, permettant la fabrication de transistors nanométriques de haute précision avec différentes conceptions structurelles. Concept 2 Le réacteur Altus Shrink est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet le dépôt d'une large gamme de matériaux de film pour la fabrication de dispositifs. L'outil intègre une chimie CVD plasma avancée pour le dépôt précis d'une seule couche de matériau avec une précision de niveau atomique. Le réacteur NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink est conçu pour permettre une vitesse de dépôt rapide, assurant une épaisseur uniforme sur de grandes surfaces. Cette capacité est réalisable en optimisant la pression et le débit de gaz à mesure que la chambre de la plaquette est rétrécie. En combinaison avec un vide ultra-élevé et des pressions plus faibles que d'autres réacteurs CVD plus classiques, le réacteur Concept 2 Altus Shrink est hautement optimisé pour les dépôts d'épaisseur de couche critique. Il peut déposer divers matériaux résistants à la gravure pour une protection supérieure du dispositif et le dépôt de films métallo-diélectriques de différentes épaisseurs pour différentes structures du dispositif. Le réacteur NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink peut également créer des caractéristiques de rapport d'aspect élevé pour les structures de grille moulées, permettant une flexibilité de conception supérieure. En outre, l'outil est capable de déposer des nanocouches conformes en polymère ou en matériau carboné-nitrure pour l'isolation de grille et les grilles métalliques avancées. Concept 2 Le réacteur Altus Shrink est également capable d'une gamme de températures de préchauffage pour un meilleur contrôle de l'épaisseur du film, ainsi que d'une fonction post-recuit variable pour un dépôt durable de haute qualité. En outre, il a un haut débit de film et l'efficacité de production, ainsi que des diagnostics embarqués. Il s'agit d'un système de distribution de gaz entièrement intégré qui comprend le contrôle de recette, les contrôleurs de débit massique, la surveillance MFC, et la capacité de purge et de surveillance en ligne du gaz pour les résultats traçables. NOVELLUS Concept 2 Le réacteur Altus Shrink a précisément conçu des chambres de procédés pour améliorer l'uniformité des dépôts sur de grandes surfaces avec une fluctuation minimale de la température, ainsi que la stabilité des procédés pour des résultats prévisibles. L'outil dispose également d'un transfert automatisé des plaquettes, y compris le chargement des plaquettes, le déchargement, les mandrins en caoutchouc et le nombre de plaquettes par recette. Il est également capable de contrôler les processus de pointe, avec une interface graphique facile à utiliser et une métrologie in situ pour la rétroaction et le contrôle de la qualité.