Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #166554 à vendre en France

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Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT 2 Altus
ID: 166554
Taille de la plaquette: 8"
Chemical vapor deposition system, 8" (1) Altus shrink chamber (PNL) MTR5 Robot Single SSD (1) Aligner 1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur de pointe conçu pour des applications dans le dépôt de matériaux avancés pour la fabrication de semi-conducteurs et la fabrication de MEMS. Le réacteur offre une large gamme de capacités et est l'un des réacteurs les plus puissants et les plus fiables du marché. Il est bien adapté pour le dépôt de couches minces uniformes avec des niveaux de contraintes plus faibles et des variations d'indice de réfraction élevées. L'Altus utilise une chambre de traitement sous vide et une source de faisceau d'électrons (faisceau E). Un canon à électrons de grande puissance fonctionnant jusqu'à 60 kilovolts (kV) est utilisé pour éliminer les matières indésirables des surfaces avant le processus de dépôt. Ce procédé permet aux couches d'adhérer plus étroitement au substrat et augmente la stabilité de la couche mince résultante. Elle permet également le dépôt de matériaux autrement difficiles à déposer avec les méthodes classiques. Le système comprend une carte intelligente, qui est une interface pour un paramétrage facile. Il s'agit d'une plate-forme hautement configurable, permettant de programmer les recettes de processus de dépôt en fonction des spécifications de l'utilisateur. En outre, CONCEPT 2 Altus est équipé de contrôleurs avancés et d'ordinateurs pour le contrôle automatique complet des processus. Ceci donne accès à différentes fonctions allant de simples réglages à des paramètres plus compliqués. Le réacteur peut traiter toutes sortes de matériaux, y compris les métaux, les diélectriques et les composés. Le processus de dépôt est réalisé soit par Langmuir-Blodgett (LB), soit par dépôt de couche atomique (ALD). Le procédé LB est adapté aux couches minces à petite taille de molécule et le procédé ALD est optimisé pour produire des oxydes stables complexes. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus dispose également d'un système de gestion de l'énergie (EMS) qui réduit la consommation d'énergie pendant le processus de dépôt des couches minces. Cela permet de réduire les coûts d'exploitation et de maintenance et d'améliorer le rendement de production. En outre, le convertisseur et l'émetteur sont très durables par rapport aux alternatives, ce qui signifie moins de temps d'arrêt et moins de pièces de rechange nécessaires. CONCEPT 2 Altus est la meilleure option pour les utilisateurs à la recherche de capacités de dépôt performantes et peu coûteuses. Ses caractéristiques avancées le rendent adapté à pratiquement toute application nécessitant le dépôt de couches minces ou de revêtements alternatifs. De plus, la combinaison de la source de faisceau E haute puissance, de l'interface SmartCard et de l'automatisation informatique en fait l'un des réacteurs les plus fiables pour le dépôt de matériaux.
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