Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #181297 à vendre en France
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ID: 181297
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Dual Shrink W-CVD Chemical vapor deposition system, 8"
Chamber Location
1 Station Left Loadlock
2 station Process Module
3 station Process Module
4 station Right Loadlock
5 Station Cooling Sation
Electrical Requirements
AC power Voltage 208 VAC
DLCM Configuration
Indexer Type: Animatic Controller
Brooks Robot Type: Mag7
Host Interface: GEN/SECS
Controller Type : P166/64M/QNX4
DLCMS Type: Only Hi
Module Interface Type: Arc-net Type
IOC : Ver 4.1
TM Manometer 1 torr/ 100mtorr: Tylan General
L/L Manometer 100torr: Tylan General
L/L Convectron: Not Install
Module Door Type: SMC L-Motion
Chamber A:
Process Option BLKT
Clean Option Insuts Clean
MOER Ceramic M/A / M/B (Not Used)
Throttle Valve Type Tylan General 1ea
MFC Type & Size
Brooks 5964:
Ar (5000Sccm)
Ar (10000Sccm)
Area FC980C:
NH3 (150Sccm)
Brooks 5964:
Ar (10000Sccm)
Ar (20000Sccm)
Ar (20000Sccm)
H2 (20000Sccm)
H2 (20000Sccm)
Area FC980C:
B2H6, N2 (750Sccm)
Brooks 5964:
C2F6 (2000Sccm)
SAM MC4VLZ24:
WF6 (1000Sccm)
Brooks 5964:
O2 (2000Sccm)
SiH4 (1500Sccm)
SFC1480FPD:
SiH4 (300Sccm)
Slip Valve Type: SMC L-Motion
Chamber B:
Process Option BLKT
Clean Option Insuts Clean
MOER Ceramic M/A / M/B (Not Used)
Throttle Valve Type Tylan General 1ea
MFC Type & Size
SPEC 7330:
Ar (5000Sccm)
Ar (5000Sccm)
NH3 (1000Sccm)
NH3 (1000Sccm)
Ar (20000Sccm)
Ar (5000Sccm)
Ar (15000Sccm)
H2 (5000Sccm)
H2 (20000Sccm)
B2H6, N2 (750Sccm)
C2F6 (2000Sccm)
WF6 (750Sccm)
O2 (2000Sccm)
SiH4 (1000Sccm)
Slip Valve Type SMC:
L-Motion
1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un équipement hautement spécialisé et avancé de réacteur PVD (Physical Vapor Deposition). Elle est couramment utilisée pour appliquer des couches minces de matériau déposé sur des substrats à grande échelle tels que des plaquettes de silicium destinées à être utilisées dans des dispositifs semi-conducteurs, optoélectroniques et microélectroniques. CONCEPT 2 Le système Altus est conçu pour offrir un haut niveau de contrôle des processus, d'uniformité et de flexibilité dans le but d'optimiser le rendement des processus. La chambre PVD est entraínée par un moteur linéaire qui fournit un environnement stable et stable pour un dépôt uniforme. Il présente également des tailles de substrat variables, des positions de canon réglables, de multiples zones et deux sources de matériaux de dépôt, qui aident à maximiser l'uniformité et le débit des processus. La chambre dispose également d'un bras robotique rapide et de haute précision qui déplace et charge les matériaux dans la chambre rapidement et avec précision. L'unité NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est équipée d'une variété de capteurs et de contrôleurs qui surveillent continuellement le processus et fournissent des informations détaillées sur l'uniformité de la réaction. Cela garantit la meilleure qualité et répétabilité possible des couches minces. La machine comprend également un logiciel propriétaire qui peut être utilisé pour surveiller, évaluer et ajuster le processus de dépôt en temps réel. CONCEPT 2 L'outil Altus offre aux utilisateurs un meilleur contrôle des paramètres du processus, une plus grande précision et répétabilité, et une meilleure stabilité du processus. C'est un atout idéal pour ceux qui cherchent à appliquer des films minces de haute qualité sur des substrats à grande échelle rapidement et efficacement. La combinaison de performances supérieures, de répétabilité et de flexibilité font du modèle NOVELLUS CONCEPT 2 Altus le choix idéal pour les applications PVD à haut volume.
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