Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9095522 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9095522
Taille de la plaquette: 8"
Chemical vapor deposition (CVD) system, 8"
Process: Shrink DLCM
Non-shrink process modules
SSD Module: Dual chamber
Wafer type: Notch
SECS/GEM Software: No
Standard chamber
Mainframe options:
System controller: MC3
Signal tower: No
AC Power rack: Standard
Interconnect cables: No
DLCM
User interface: Adjacent to system
Transfer robot type: BROOKS MTR 5
Paddle type: Standard
Shuttle type: Standard
Cassette type: No
Indexer type: Type II
Cool station: No
SMIF loader type: No
Manometer: Standard 100 Torr
Facilities configuration: Either
Control system: QNX4
Pump electrical interface: No
Missing parts:
Animatics type
Leak check shutoff valve
Process module A: Altus
Controller type: MC3
IOC Version: 3.02
Gate and throttle valve: Internal, non-heated
Process manometer: 100 Torr non-heated
Heater pedestals: D-Type
Shower heads: Yes
MOER Rings: No
Spindle assy seal type: Ferrofluidic
X-Y Centering station: Yes
Viewport window: Sapphire
RF Match: Trazar
Chamber process: Tungsten plug fill
Full face coverage
Module location: Center port
Standard footprint
Facility connections: Rear of chamber
Module location: Center port (default)
Missing parts:
RF High frequency generator
Endpoint detector
Gas box: Standard 10 channel
MFC Type: BROOKS 5964
MFC Size and location
Channel Gas Flow (SLM)
1 Argon 2 SLM
2 Sih4 50 sccm
3 Hydrogen 20 SLM
4 Argon 20 SLM
5 Wf6 Missing
6 C2F6 2 SLM
7 Oxygen S SLM
8 Argon 10 SLM
9 Hydrogen 20 SLM
10 Nitrogen 10 SLM
Process module B: Altus
Gate and throttle valve: Internal, non-heated
Process manometer: 100 Torr non-heated
Heater pedestals: D-Type
Shower heads: Yes
MOER Rings: No
Spindle assy seal type: Ferrofluidic
X-Y Centering station: Yes
Viewport window: Sapphire
RF Match: Trazar
Chamber process: Tungsten plug fill
MOER Rings
Sequel process module A center port
Standard footprint
RF Generator: No
Optical endpoint detector: Yes
Facility connections: Rear of chamber
Module location: Right port
Missing parts:
RF High frequency generator
Controller type
Gas box: Standard 10 channel
10 Gas, missing 9 gas sticks
MFC Size and location
Channel Gas Flow (SLM)
5 Wf6 750 sccm
(1-10) Missing.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus (C2A) est un réacteur haute performance conçu pour les applications de gravure, de dépôt et de pulvérisation plasmatiques dans l'industrie des semi-conducteurs. L'équipement utilise une technologie magnétique verticale brevetée qui combine une puissance élevée avec une grande zone d'électrode pour obtenir une stabilité de processus supérieure. Le réacteur C2A est alimenté par un générateur HF de 30 kW qui lui permet de traiter des substrats de grande surface avec un débit plus rapide qu'un réacteur standard. Le réacteur dispose également d'un système d'auto-accord avancé qui lui permet d'optimiser rapidement et avec précision les paramètres du processus plasma pour chaque plaquette traitée. Le C2A possède un champ magnétique vertical unique capable de produire des températures plasmatiques plus élevées et une densité plus faible qu'un réacteur standard. Ce plasma plus énergétique permet d'améliorer les taux de gravure et l'homogénéité. Le C2A utilise également un bouclier électrostatique supérieur réglable pour éviter la contamination par le plasma et un mandrin flottant pour maintenir une température constante du substrat. Le C2A dispose également de plusieurs chambres pour une plus grande flexibilité de traitement. Cela permet aux utilisateurs d'effectuer plusieurs processus simultanément ou en séquence. L'unité de gestion avancée du gaz du C2A assure l'uniformité du débit de gaz et le contrôle total du gaz. Ceci permet de s'assurer que les paramètres du procédé restent cohérents quelle que soit la taille du substrat ou le nombre de substrats traités. Le C2A est également équipé d'une machine de contrôle avancée qui permet aux utilisateurs de surveiller, d'ajuster et d'optimiser les paramètres du processus en temps réel. Cet outil utilise une interface utilisateur avancée pour un fonctionnement facile et un logiciel qui permet aux utilisateurs de créer et de stocker des recettes de processus pour différents substrats et applications. CONCEPT 2 Altus (C2A) est un réacteur de pointe hautement fiable conçu pour le traitement des semi-conducteurs dans les arènes de gravure, de dépôt et de pulvérisation de plasma. Son générateur HF de 30 kW, son bouclier électrostatique supérieur réglable et son mandrin flottant assurent une stabilité de processus supérieure tandis que sa technologie magnétique verticale, son actif de gestion du gaz réglable et son modèle de contrôle supérieur garantissent des performances supérieures. Le C2A est le choix idéal pour toute installation de traitement de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques