Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9171171 à vendre en France
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ID: 9171171
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Chemical vapor deposition (CVD) system, 8"
Process: CVD - Tungsten dep
Module configuration: Standard
Wafer type: Notch
Module type: CVDW
SMIF Type
(2) Chambers
Software: QNX2 / 4
Module controller: MC2
Pedestal assembly type: Ped assy, 200mm MORE, D, no flat, SEMI 0
Exclusion ring type: MOER 0
Exclusion ring lift type: 02-054427-01 0
DLCM Configuration:
DLCM Type: Shrink
Cassette interface: Platform
Robot type: Mag7 (P/N: 003-1600-25)
Arm set: Dual arm (P/N: 002-0016-14)
Cool station: 3-Level
Pressure gauge:
Capacitance manometer, MKS (P/N: 750B12TCE2GK), 100Torr
MYCROLIS Throttle valve
MKS 651D-16202 Throttle valve controller
ANIMATICS CDP2407-2 Indexer controller
Slit gate valve (Chamber A, B):
02-121427-00, SMC, XGT-0402AWM-X16 Rev8
Slit gate valve (Loadlock A, B):
02-133793-00, SMC, XGT-0101AWM-X16 Rev1
Chamber configuration:
Chamber A CVD - Tungsten
Chamber B CVD - Tungsten
Pedestals: 200 mm
MOER:
Pedestal 1
Pedestal 2-5
Clean: Insitu
Millipore MDVX-100B Throttle valve
27-053468-00 Throttle valve controller
VAT 14040-PE34-0003 Gate valve
Pressure gauge:
100 Torr (Milipore, CDLD2106E), Backside
100 Torr (Milipore, CDLD2106E)
10 Torr (Milipore, CDLD1106E)
RF Match: Trazer, AMU2-1
RF Configuration:
HF RF Generator type: AE RFG 3000
MFC Size & Gas type:
Chamber A:
MFC1 / SLM / Ar
MFC2 / 50SCCM /SiH4
MFC3 / 20SLM / H2
MFC4 / 20SLM / Ar
MFC5 / 500SCCM/ WF6
MFC6 / 2SLM / C2F6
MFC7 / 2SLM / O2
MFC8 / 10SLM / Ar
MFC9 / 20SLM / H2
MFCC / 2SLM / Ar
MFCD / 20SLM / Ar
MFCE / 500SCCM / WF6
UPC1 / SLM / Ar
Chamber B:
MFC1 / SLM / Ar
MFC2 / 50SCCM /SiH4
MFC3 / 20SLM / H2
MFC4 / 20SLM / Ar
MFC5 / 500SCCM/ WF6
MFC6 / 2SLM / C2F6
MFC7 / 2SLM / O2
MFC8 / 10SLM / Ar
MFC9 / 20SLM / H2
MFCC / 2SLM / Ar
MFCD / 20SLM / Ar
MFCE / 500SCCM / WF6
UPC1 / SLM / Ar
2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor est un outil de pointe qui permet aux utilisateurs d'effectuer un traitement avancé des matériaux semi-conducteurs dans un environnement de gravure avancé. Le réacteur Altus est un système tout-en-un conçu pour offrir des capacités de gravure de haute qualité et à haut débit pour tous les types d'applications connexes. CONCEPT 2 Altus Reactor est particulièrement conçu pour améliorer les performances de la gravure ainsi que d'autres étapes de traitement, telles que l'oxydation thermique et la relamination. Il utilise une technologie de gravure révolutionnaire de pointe qui combine le plasma à couplage inductif (ICP) avec la gravure ionique réactive de haute précision (RIE) et la gravure par faisceau d'ions directionnel (DIBE). Cette technologie de gravure de pointe fournit une couverture d'étape ultime, un contrôle avancé des paramètres de gravure, un débit élevé, des taux de gravure uniformes sur de grandes zones de plaquettes, et de faibles dommages de la surface de la plaquette. La principale caractéristique de NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor est son processeur de gravure avancé, qui permet aux utilisateurs de profiter pleinement de la technologie de gravure avancée offerte par le système. Ce processeur permet non seulement une haute précision des conditions de gravure, mais fournit également un aperçu de l'optimisation des processus de gravure avec des paramètres flexibles et des retours en temps réel. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser leurs recettes de gravure rapidement et avec précision, assurant les meilleurs résultats finaux possibles de leurs applications. CONCEPT 2 Altus Reactor est facile à utiliser et à entretenir, grâce à sa fonction d'auto-calibrage avancée. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs de calibrer la chambre de gravure rapidement et avec précision, en veillant à ce que tous les processus de gravure soient menés avec une précision et une précision maximales. Associé à sa fonction avancée de nettoyage automatique et de diagnostic avancé, NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor offre un système de gravure très fiable et efficace. CONCEPT 2 Altus Reactor se distingue de la concurrence par sa technologie de gravure avancée, son processeur unique et ses fonctionnalités faciles à utiliser, qui en font un choix idéal pour toute application de gravure à semi-conducteur. Sa technologie de gravure de pointe garantit les meilleurs résultats possibles pour toutes les applications de gravure connexes, ce qui en fait une solution efficace, fiable et de haute qualité pour le traitement avancé des matériaux semi-conducteurs.
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