Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9191508 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur à haute température de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) développé par NOVELLUS Systems, Inc. qui est spécialement conçu pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. En effet, le réacteur est conçu pour réaliser des diélectriques et des couches métalliques améliorées pour des circuits intégrés sur des substrats non silicium. Le réacteur est basé sur une conception tubulaire à paroi chaude qui permet un contrôle précis de la température et de la vitesse de dépôt. La buse peut supporter des températures élevées allant jusqu'à 1000 ° C et sa petite taille permet un contrôle extrêmement précis et des résultats de haute pureté. Sa chambre à température contrôlée est bien isolée, permettant des résultats de processus précis et stables même soumis à des fluctuations de température de l'environnement extérieur. CONCEPT 2 Altus est parmi les plus avancés de la gamme de réacteurs MOCVD de NOVELLUS Systems. Son équipement informatique de pointe permet de contrôler avec précision divers paramètres tels que la largeur de ligne, l'épaisseur et la rugosité de surface. Il permet également un contrôle précis de la composition des films, ce qui permet des applications plus avancées telles que le dépôt de couches ultra minces et de films d'alliages uniformes. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus utilise également une technologie innovante de refroidissement par pulvérisation thermique pour améliorer les performances. Le système de refroidissement intégré améliore la stabilité et l'uniformité des résultats. La pulvérisation thermique permet également des débits plus élevés et une amélioration du temps de fonctionnement de l'unité. En outre, la machine active de pompage sous vide assure des pompes rapides, réduisant ainsi le temps passé entre les opérations. Dans l'ensemble, CONCEPT 2 Altus est un réacteur MOCVD avancé et fiable spécialement conçu pour répondre aux besoins des procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus rigoureux. Sa conception innovante et son outil de contrôle informatique permettent un contrôle précis sur une gamme de paramètres et de composition de films, permettant des technologies et des applications plus complexes. En outre, son système intégré de refroidissement par pulvérisation thermique et son modèle de pompage sous vide actif améliorent considérablement ses performances, ce qui en fait un atout inestimable dans l'industrie des semi-conducteurs.