Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9202875 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur à plasma de nouvelle génération utilisé pour la gravure et le dépôt de couches minces de haute précision pour la fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur a été développé pour optimiser la production de dispositifs avancés, tels que les FinFET, au noeud de 20nm et au-dessous. Il dispose d'une chambre à haut rapport d'aspect et utilise le plasma à couplage inductif (ICP) pour générer des rejets plasmatiques. CONCEPT 2 La chambre à haut rapport d'aspect d'Altus est conçue pour améliorer la précision du dépôt et de la gravure des différents matériaux. Avec un rapport d'aspect 10:1, la chambre permet une plus grande séparation entre électrodes, ce qui augmente la stabilité des champs électriques utilisés pour générer des décharges de plasma. Il assure également un bombardement ionique uniforme sur toute sa surface de plaquette. De plus, la chambre présente un profil vertical plus mince, permettant des transitions plus rapides entre les différents processus. De plus, NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est alimenté par une source ICP qui est optimisée pour le contrôle de faible proximité de la gaine pour une meilleure uniformité de gravure. En contrôlant la source du PCI, il peut créer des plasmas avec de larges gammes de puissance allant de la puissance ultra-faible à la puissance élevée, permettant un contrôle exact de la gravure et du dépôt de différents matériaux. CONCEPT 2 Altus utilise également des technologies efficaces, comme les temps de cycle qui sont jusqu'à 30 % plus rapides que les systèmes précédents, et son système de transfert des plaquettes, qui augmente l'efficacité du chargement des plaquettes. Il dispose également de la technologie de verrouillage de charge, qui permet une reconstitution rapide du gaz de procédé et de l'air sec propre pour réduire encore le temps de traitement. En outre, le système intègre des diagnostics intelligents avancés et des alarmes, qui permettent une maintenance prédictive. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un système complet de réacteur à plasma de nouvelle génération conçu pour fournir des capacités de gravure et de dépôt efficaces et de haute précision pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Il utilise la technologie ICP pour générer des plasmas avec un contrôle précis, une chambre à haut rapport d'aspect pour un bombardement ionique uniforme, des technologies efficaces pour des temps de cycle plus rapides, et des diagnostics intelligents avancés pour assurer une performance optimale.