Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9248936 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Le réacteur Altus est un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour déposer des films extrêmement minces sur des substrats. Il est équipé d'un équipement de serrure automatisé, d'un débit de gaz supérieur et inférieur, d'un système de nettoyage à base d'ozone, d'un réacteur 3D avancé et d'une unité de régulation de température de haute précision. La machine à serrure automatisée facilite le chargement et le déchargement des substrats dans la chambre, ce qui simplifie grandement le processus et augmente la précision. Le « débit supérieur et inférieur de gaz » désigne l'outil de distribution de gaz qui comprend une tête de douche, des douches doubles et des injecteurs muraux qui permettent des taux de dépôt élevés tout en permettant un contrôle précis de la distribution. Le réacteur 3-d avancé est spécialement conçu pour une plus grande uniformité des procédés et une meilleure vitesse de dépôt des films. Cet atout remplace de nombreux autres fours traditionnels utilisés pour déposer des films sur des substrats. Il permet également un contrôle précis de la température, permettant le dépôt précis et uniforme des films. Le modèle de nettoyage à base d'ozone offre une propreté maximale pour les dépôts sans résidus. Le procédé d'oxydation élimine les particules et les matières organiques des parois et des surfaces de la chambre avant dépôt améliorant ainsi la qualité du film. L'équipement de contrôle de température de haute précision permet un contrôle de température extrêmement précis, permettant le dépôt de films avec précision et uniformité. Elle permet également de réduire le temps de dépôt et d'améliorer la qualité du substrat. Dans l'ensemble, le réacteur CONCEPT 2 Altus est un outil CVD puissant avec des fonctionnalités avancées spécifiquement conçues pour améliorer la qualité du film, réduire le temps de dépôt et augmenter la précision du procédé. Avec son système de serrure, son unité de distribution de gaz, son réacteur 3D avancé et son contrôle de température de haute précision, le réacteur Altus délivrera des films de qualité sur une gamme de substrats.