Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9268202 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT 2 Altus
ID: 9268202
Taille de la plaquette: 8"
CVD-W System, 8".
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur haute densité de pointe utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour fabriquer des circuits intégrés complexes. C'est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) amélioré par plasma qui est conçu pour traiter les substrats multicouches ou multicouches rapidement et efficacement. Grâce à ses capacités de dépôt avancées, CONCEPT 2 Altus peut être utilisé dans une variété d'applications, y compris la production de films minces, de diélectriques haut de gamme et de diélectriques intercalaires. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus utilise une source de plasma hybride à couplage magnétique qui combine des sources de plasma à couplage capacitif (CCP) et de plasma à couplage inductif (ICP) pour une flexibilité maximale et une qualité de film constante. Le contrôle exclusif de la puissance sans ordinateur central du réacteur permet de réduire la dérive et de maintenir la cohérence des paramètres du processus sur de longues périodes, ce qui permet de s'assurer que chaque appareil produit est de la plus haute qualité possible. CONCEPT 2 Altus est conçu pour être hautement adaptable aux processus, permettant à l'utilisateur de s'adapter à un large éventail de défis de processus tels que la nucléation, l'uniformité et la couverture d'étape. Le système amélioré de distribution de gaz est conçu pour assurer une commutation rapide des gaz et une répartition uniforme des flux de gaz sur chaque substrat. En utilisant une vanne de grille et des modules exclusifs de livraison de gaz en amont, NOVELLUS CONCEPT 2 Altus peut offrir un dépôt uniforme sur l'ensemble du substrat et garantir une couverture et une uniformité optimales des couches produites. CONCEPT 2 Altus propose également une série de composants de leashing comprenant des régulateurs de pression d'entrée et de sortie, un amplificateur à quartz, une résistance thermique de réglage et un thermocouple pour le contrôle de la température. Cette gamme impressionnante de caractéristiques assure uniformité et précision sur les substrats. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est le réacteur idéal pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est une unité fiable, économique et hautement adaptable qui offre des films de haute qualité et une couverture d'étape optimale sur tous les substrats. Grâce à sa source de plasma à couplage magnétique avancé, à sa machine à gaz réglable et à ses puissants composants de leashing, CONCEPT 2 Altus est l'outil parfait pour garantir une fiabilité et une uniformité constantes des produits.
Il n'y a pas encore de critiques