Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9377394 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour permettre le dépôt de divers matériaux sur des substrats. Il est adapté à toute une gamme d'applications, y compris le dépôt de métaux, de semi-conducteurs, de céramiques et de films diélectriques à faible k. L'Altus est un outil PVD innovant qui offre un débit et une flexibilité élevés avec un large choix de films et de techniques de dépôt de matériaux. L'Altus a une conception à la fine pointe de la technologie, avec une double configuration de source d'aimants linéaires, un réservoir sous vide et une chambre de procédé sans filaments. La configuration à double aimant linéaire place la source de matériaux directement dans la chambre de procédé, créant un plasma très énergétique et uniforme. Ce plasma permet le dépôt de films de haute qualité avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film. Le récipient sous vide améliore encore l'uniformité du procédé, ce qui permet d'affiner les paramètres du procédé. La chambre de procédé sans fil offre une uniformité et une fiabilité supérieures, ainsi qu'une flexibilité accrue du procédé. Il comporte des options de procédé hybridées, permettant de modifier les paramètres du procédé au besoin sans aucune caractérisation optique du matériau avant le dépôt. Cela permet d'utiliser plusieurs matériaux cibles et procédés de dépôt sans aucune modification du système. CONCEPT 2 Altus dispose également d'un système de spectroscopie optique d'émission in situ (OES). L'OES permet une surveillance instantanée du plasma, y compris la température et la composition, permettant aux opérateurs d'effectuer des ajustements en temps réel du processus. En fournissant des données en temps réel sur le dépôt, l'Altus garantit un film de qualité constante et des performances reproductibles. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT 2 Altus est un réacteur PVD de pointe qui convient bien à de nombreuses applications. Il offre une technologie de pointe qui permet un contrôle précis du dépôt de matériau, avec une caractérisation optique minimale du matériau cible. De plus, la spectroscopie optique d'émission in situ permet une surveillance en temps réel du processus, garantissant des résultats reproductibles de haute qualité.