Occasion NOVELLUS Concept 2 DLCM S #293757463 à vendre en France

NOVELLUS Concept 2 DLCM S est un outil avancé de dépôt de couches minces utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur est conçu pour assurer un contrôle précis et une uniformité dans le dépôt de couches minces sur des plaquettes de silicium, indispensables à la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs. Le DLCM S signifie module de refroidissement liquide direct S, mettant en évidence la technologie de refroidissement innovante utilisée dans cet équipement pour une dissipation de chaleur efficace et efficiente. Au cœur du réacteur Concept 2 DLCM S se trouve son architecture de chambre sophistiquée, qui permet le dépôt de couches minces de haute qualité avec une excellente uniformité et répétabilité. Cette chambre est équipée de multiples ports d'injection de gaz, permettant l'introduction précise des gaz précurseurs nécessaires au processus de dépôt. Ces gaz sont soigneusement contrôlés et surveillés pour s'assurer que les réactions chimiques souhaitées ont lieu à la surface de la plaquette de silicium. La technologie du module de refroidissement liquide direct S dans le réacteur NOVELLUS Concept 2 DLCM S joue un rôle crucial dans le maintien de la température de la chambre et de la plaquette pendant le processus de dépôt. En faisant circuler un fluide de refroidissement à travers des canaux de refroidissement intégrés à l'intérieur des parois de la chambre, ce système dissipe efficacement la chaleur générée par les réactions de dépôt, évitant les pointes de température et assurant un environnement thermique stable pour le processus de dépôt. Le réacteur dispose également de sources de plasma avancées qui permettent des processus de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) et de dépôt de couche atomique (PEALD) améliorés par plasma. Ces sources plasmatiques créent un plasma gazeux énergivore qui améliore les réactions de surface sur la plaquette, ce qui améliore la qualité du film, son adhérence et sa conformité. Les paramètres plasmatiques, tels que la puissance, les débits gazeux et la fréquence, peuvent être ajustés finement pour optimiser le processus de dépôt pour différents matériaux et épaisseurs de couches minces. En outre, le réacteur DLCM S du Concept 2 est équipé d'une unité de manutention de plaquettes de pointe qui assure un positionnement et un contrôle précis des plaquettes de silicium tout au long du processus de dépôt. Cette machine permet le chargement et le déchargement automatisés des plaquettes, minimisant le risque de contamination et assurant une efficacité élevée des processus. De plus, le réacteur dispose de capacités de surveillance et de contrôle in situ, y compris des outils de métrologie en temps réel, pour évaluer l'épaisseur, la composition et l'uniformité du film pendant le dépôt. Dans l'ensemble, le réacteur NOVELLUS Concept 2 DLCM S représente une solution de pointe pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs. Son contrôle précis, sa technologie de refroidissement avancée, ses procédés améliorés par plasma et son outil robuste de manutention des plaquettes en font un outil polyvalent et fiable pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes. En fournissant des couches minces de haute qualité avec une homogénéité et une répétabilité exceptionnelles, ce réacteur contribue à l'avancement de la technologie des semi-conducteurs et permet la production de circuits intégrés de nouvelle génération.