Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093690 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Le réacteur Dual Altus 2 est un réacteur à dépôt en phase vapeur amélioré chimiquement (CEPVD) utilisé pour la production de produits de dispositifs semi-conducteurs à haut volume. Il est basé sur une architecture modulaire qui prend en charge différentes applications dans différentes configurations dynamiques. Le réacteur est conçu avec une chambre double, permettant un dépôt à haut débit dans une chambre et un dépôt à bas débit dans l'autre chambre. Cela permet au réacteur de maintenir un débit élevé tout en réduisant les coûts consommables. Le réacteur a une conception unique thermiquement inégalée qui sépare la chambre de traitement de la plaquette de la chambre de source, de sorte que le dépôt à haut débit n'est pas affecté par les variations thermiques dans la chambre de source. Cet isolement thermique permet une gestion thermique efficace et des taux de dépôt cohérents. De plus, CONCEPT 2 Dual Altus 2 utilise une chambre de dépôt fractionnée qui permet le dépôt de différentes couches au sein d'une même chambre. Cette conception en chambre fendue permet d'intégrer plus facilement le réacteur dans la ligne de production des semi-conducteurs. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 utilise un tube en quartz fabriqué sur mesure qui offre une manutention supérieure, une uniformité de température et des taux de dépôt uniformes. Il dispose d'un système avancé de surveillance de la température sur plaquettes (OWTM) pour garantir une uniformité fiable et des performances taylorgraphiques. L'OWTM avancé est capable de détecter des pointes rapides de température sur des nanosecondes, permettant de contrôler les gradients thermiques sur une seule plaquette. Cela permet de s'assurer que les processus fonctionnent de façon cohérente et fiable en surveillant et en affichant les données de température en temps réel pour chaque plaquette. Un avantage majeur du réacteur CONCEPT 2 Dual Altus 2 est sa capacité à traiter plusieurs lots de précurseurs. Cela permet au réacteur de traiter des plaquettes avec différentes avancées de plate-forme en un seul lot. L'introduction de systèmes de mélange de gaz en amont permet également à NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 d'ajuster divers paramètres de processus, tels que la pression, la température et le débit de gaz en temps réel, ce qui permet un contrôle plus précis des processus de dépôt complexes. Dans l'ensemble, CONCEPT 2 Dual Altus 2 est un réacteur CVD éprouvé et fiable qui offre une excellente uniformité et des cadences de production. Sa capacité à manipuler plusieurs lots de précurseurs, ainsi que son système avancé de surveillance de la température sur plaquettes, en font un choix idéal pour la production de produits de dispositifs semi-conducteurs à haut volume.