Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093691 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 est un équipement de réacteur de pointe conçu pour le traitement rapide et efficace des gravures. Il est spécialement conçu pour fournir des temps de réponse rapides et un contrôle supérieur des processus de gravure afin d'augmenter les rendements de production. CONCEPT 2 Dual Altus 2 est construit sur une plate-forme de substrat unique et commune avec un agencement de chambre intégré, permettant la flexibilité et l'optimisation des paramètres de traitement. Cette plate-forme peut accueillir jusqu'à quatre chambres de gravure afin de répondre à la complexité croissante des exigences et des applications des appareils. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 fournit la puissance plasma configurable, le débit de gaz, la pression et les contrôles de température afin de contrôler précisément les processus de gravure. Le processus de gravure peut être adapté aux besoins spécifiques des clients, et le système contrôle étroitement la forme du profil, l'épaisseur de la couche, la profondeur et le rapport d'aspect. CONCEPT 2 Dual Altus 2 utilise la technologie de gravure plasma la plus récente, y compris un processus unique MESA (Multi-Etching Source Assisted) qui permet un taux de gravure extrêmement élevé et des profils de gravure très anisotropes. Les sources de plasma intégrées utilisent à la fois le couplage capacitif et le couplage inductif, ce qui permet une meilleure flexibilité du procédé et un meilleur contrôle du profil. L'unité est également équipée d'une machine à plasma et moniteur automatisé, qui permet un contrôle précis des paramètres de gravure. En outre, l'outil est équipé de systèmes intégrés de distribution de gaz pour un débit de gaz uniforme ainsi que d'un contrôle intégré de la température pour assurer un contrôle précis de la température du processus de gravure. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 offre une excellente uniformité et répétabilité des processus tout en répondant à des exigences de débit très exigeantes. L'actif dispose également de capacités diagnostiques avancées, ainsi que d'un vaste ensemble d'options de surveillance de processus. Le modèle a été largement qualifié pour garantir des résultats fiables de haute qualité dans un large éventail de processus de gravure et de matériaux. Cet équipement est également capable d'un débit extrêmement élevé, ce qui permet une fabrication flexible et des temps de cycle plus courts avec un temps d'arrêt minimal. CONCEPT 2 Dual Altus 2 offre une solution de gravure évoluée et flexible qui répond aux exigences d'une grande variété d'applications industrielles.