Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus #9093684 à vendre en France
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ID: 9093684
CVD System
Standard and PNL chamber
Shrink chambers
Frame has PNL option
Module controller: MC1 P166 QNX4
IOC Version: 4.1
Shuttle type
SMC L-motion slit valve
Verify end point detector
RFG 3000 Generator
Power rack: MSSD.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus Reactor est un appareil à double pulvérisation avec une featureset unique conçu pour les applications de gravure et de dépôt les plus exigeantes. Il combine des capacités réactives déjà avec un contrôle de processus supérieur pour garantir des résultats cohérents de haute qualité. Le CONCEPT 2 de NOVELLUS le contrôle d'AC/DC/O2 unique d'ALTU DOUBLES, combiné avec la technologie de Field Emission Source (FES) pour retarder la déposition, augmente la qualité et l'uniformité de couches sur de grandes régions. CONCEPT 2 Dual Altus est construit sur le même cadre que son prédécesseur, le Concept 1, mais dispose de plusieurs fonctionnalités améliorées : cages doubles pour deux fois plus de surface traitée, précision accrue dans la pulvérisation, sources de plasma multiples améliorées, et une source supplémentaire de O2. La conception de pulvérisation à double cage réduit le champ électrique possible, ce qui entraîne un dépôt incroyablement uniforme et une homogénéité accrue du film. En insérant une cage Faraday entre la source de plasma et la plaquette, CONCEPT-2 DUAL ALTUS est capable de contrôler étroitement l'environnement plasmatique de la zone de travail pour prévenir l'arc et la contamination. En outre, NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus dispose d'une série d'options avancées de contrôle de processus pour contrôler avec précision la vitesse de dépôt, l'uniformité et l'épaisseur. Grâce à l'utilisation de rétroaction en temps réel et d'algorithmes de processus avancés, NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS peut toujours produire un produit de qualité supérieure. De plus, CONCEPT 2 Dual Altus offre une conception plus efficace pour améliorer la répétabilité des processus et a considérablement réduit la consommation d'O2 pour un processus plus vert. Enfin, CONCEPT-2 DUAL ALTUS est maniable et polyvalent dans un large éventail d'environnements de processus, avec un design modulaire qui peut être facilement modifié pour différentes applications. Cette adaptabilité et dilatabilité permettent aux clients de moderniser et/ou développer leur environnement Fact10 existant pour inclure le CONCEPT 2 NOVELLUS Altus Double et ses capacités avancées. Qu'il s'agisse de procédés de dépôt et de gravure améliorés ou d'applications spécialisées, NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS est un outil exceptionnel capable de produire des résultats de qualité constante.
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