Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9223972 à vendre en France

ID: 9223972
System User interface: C2-SCON5995 Wafer shape: Flat / Notch No SMIF interface No aligner option Module A / B: Express Process A: ARC Process B: AEC Load lock baratron model: Convectron Index robot type: Index 2 TM Robot type: Mac 7 TM Robot blade: Metal Wafer sensor: Existence Signal tower No fab installation Module controller: MC1 Host interface: SECS EMO: Push button Front monitor: System UI LCD Back monitor: CRT No load lock dry pump Slit valve insert Slit valve type: SMC L-Motion No TM dry pump TM Throttle valve model: Millipore TM Baratron model: MKS Module A / B: Chamber type: Express Module controller: MC1 Chamber process: ARC IOC Version: IOC1 / 4.1 IOC2 / 4.1 IOC3 / 4.1 Manometer 1(10T): MKS Manometer 2(1000T): MKS Process clean type: Normal HF Generator: AE RFG5500 LF Generator: AE PDX1400 RF Match: Mercury Heater block type: (6) Stations End point option: Dual head Spindle top plate type: (6) Pieces Spindle type: Ferrofluidic Foreline gate heat option Foreline gate valve: HVA Throttle valve: MKS 2538-15665 Throttle valve heat option Liquid IOC version: 4.1 No module dry pump RF Isolation box missing Pearl kit missing (N2O Treatment kit) Gas / MFC Size / MFC / Model N2 / 5 / SLM / Awra FC7800CD N2 / 10 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 20 / SLM / Awra FC7800CD NH3 / 10 / SLM / Awra FC7800CD SÌH4 / 1 / SLM / Awra FC7800CD O2/CF/ 20 / SLM / Awra FC7800CD PH3/N2 / 2 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 1 / SLM / Awra FC7800CD C2F6 / 5 / SLM / Awra FC7800CD System: Main power: 208 V, 3 Phase, 5 wires UPS power: 120 V, 3 Phase, 3 wires.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express est un réacteur utilisé pour les procédés chimiques et les revêtements. Il est équipé de deux tubes rotatifs intérieurs et d'une chambre de dépôt aval plane. Il est conçu pour maximiser le débit tout en offrant des performances maximales. Les composants principaux de CONCEPT 2 Dual Sequel Express sont les injecteurs de vapeur supérieurs et inférieurs, la rampe concentrique et les plaques de chicane, la douche aval et les courants d'eau/gaz à haute pression. Les injecteurs de jet de vapeur supérieur et inférieur pulvérisent des précurseurs atomisés dans la chambre de réaction, qui sont ensuite chauffés et mis en réaction. La rampe concentrique et les plaques de chicane augmentent le temps de séjour du mélange réactionnel, permettant une plus grande réactivité entre tous les composants. La douche aval est conçue pour permettre le dépôt de tout produit de réaction sur les parois interne et externe de la chambre de réaction. Enfin, les courants eau/gaz haute pression assurent une uniformité de réaction au sein de l'enceinte. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express a la capacité de traiter une variété de matériaux, tels que des acryliques, des oxydes, des silicones, des nitrures, des carbures, et d'autres. Il peut être utilisé pour les dépôts chimiques en phase vapeur (CVD), les dépôts physiques et chimiques en phase vapeur (PECVD) et les dépôts de pulvérisateurs. CONCEPT 2 Dual Sequel Express est également capable de traiter les opérations de dépôt thermique. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express offre également un niveau avancé de contrôle, d'analyse et de sécurité. Il est équipé d'un moniteur de production à distance, permettant aux utilisateurs de suivre les paramètres de processus les plus élevés pour assurer un contrôle de précision. Il dispose également d'un écran tactile intégré pour améliorer l'interface utilisateur et l'enregistrement des données. Le système d'acquisition de données fournit des données et l'analyse de la production en temps réel dans la chambre du réacteur, donnant une indication de l'uniformité du procédé. Enfin, le CONCEPT 2 Dual Sequel Express possède également des fonctions de sécurité telles que des soupapes d'arrêt de processus et des boutons d'arrêt d'urgence. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express offre une méthode efficace et sûre de traitement et de revêtement chimiques. Le niveau avancé de contrôle offert assure précision et uniformité pendant tout processus. Le moniteur de production à distance et l'écran tactile intégré rendent le processus très convivial, conduisant à une efficacité accrue.
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