Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9223972 à vendre en France
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ID: 9223972
System
User interface: C2-SCON5995
Wafer shape: Flat / Notch
No SMIF interface
No aligner option
Module A / B: Express
Process A: ARC
Process B: AEC
Load lock baratron model: Convectron
Index robot type: Index 2
TM Robot type: Mac 7
TM Robot blade: Metal
Wafer sensor: Existence
Signal tower
No fab installation
Module controller: MC1
Host interface: SECS
EMO: Push button
Front monitor: System UI LCD
Back monitor: CRT
No load lock dry pump
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
No TM dry pump
TM Throttle valve model: Millipore
TM Baratron model: MKS
Module A / B:
Chamber type: Express
Module controller: MC1
Chamber process: ARC
IOC Version:
IOC1 / 4.1
IOC2 / 4.1
IOC3 / 4.1
Manometer 1(10T): MKS
Manometer 2(1000T): MKS
Process clean type: Normal
HF Generator: AE RFG5500
LF Generator: AE PDX1400
RF Match: Mercury
Heater block type: (6) Stations
End point option: Dual head
Spindle top plate type: (6) Pieces
Spindle type: Ferrofluidic
Foreline gate heat option
Foreline gate valve: HVA
Throttle valve: MKS 2538-15665
Throttle valve heat option
Liquid IOC version: 4.1
No module dry pump
RF Isolation box missing
Pearl kit missing (N2O Treatment kit)
Gas / MFC Size / MFC / Model
N2 / 5 / SLM / Awra FC7800CD
N2 / 10 / SLM / Awra FC7800CD
N2O / 20 / SLM / Awra FC7800CD
NH3 / 10 / SLM / Awra FC7800CD
SÌH4 / 1 / SLM / Awra FC7800CD
O2/CF/ 20 / SLM / Awra FC7800CD
PH3/N2 / 2 / SLM / Awra FC7800CD
N2O / 1 / SLM / Awra FC7800CD
C2F6 / 5 / SLM / Awra FC7800CD
System:
Main power: 208 V, 3 Phase, 5 wires
UPS power: 120 V, 3 Phase, 3 wires.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express est un réacteur utilisé pour les procédés chimiques et les revêtements. Il est équipé de deux tubes rotatifs intérieurs et d'une chambre de dépôt aval plane. Il est conçu pour maximiser le débit tout en offrant des performances maximales. Les composants principaux de CONCEPT 2 Dual Sequel Express sont les injecteurs de vapeur supérieurs et inférieurs, la rampe concentrique et les plaques de chicane, la douche aval et les courants d'eau/gaz à haute pression. Les injecteurs de jet de vapeur supérieur et inférieur pulvérisent des précurseurs atomisés dans la chambre de réaction, qui sont ensuite chauffés et mis en réaction. La rampe concentrique et les plaques de chicane augmentent le temps de séjour du mélange réactionnel, permettant une plus grande réactivité entre tous les composants. La douche aval est conçue pour permettre le dépôt de tout produit de réaction sur les parois interne et externe de la chambre de réaction. Enfin, les courants eau/gaz haute pression assurent une uniformité de réaction au sein de l'enceinte. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express a la capacité de traiter une variété de matériaux, tels que des acryliques, des oxydes, des silicones, des nitrures, des carbures, et d'autres. Il peut être utilisé pour les dépôts chimiques en phase vapeur (CVD), les dépôts physiques et chimiques en phase vapeur (PECVD) et les dépôts de pulvérisateurs. CONCEPT 2 Dual Sequel Express est également capable de traiter les opérations de dépôt thermique. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express offre également un niveau avancé de contrôle, d'analyse et de sécurité. Il est équipé d'un moniteur de production à distance, permettant aux utilisateurs de suivre les paramètres de processus les plus élevés pour assurer un contrôle de précision. Il dispose également d'un écran tactile intégré pour améliorer l'interface utilisateur et l'enregistrement des données. Le système d'acquisition de données fournit des données et l'analyse de la production en temps réel dans la chambre du réacteur, donnant une indication de l'uniformité du procédé. Enfin, le CONCEPT 2 Dual Sequel Express possède également des fonctions de sécurité telles que des soupapes d'arrêt de processus et des boutons d'arrêt d'urgence. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express offre une méthode efficace et sûre de traitement et de revêtement chimiques. Le niveau avancé de contrôle offert assure précision et uniformité pendant tout processus. Le moniteur de production à distance et l'écran tactile intégré rendent le processus très convivial, conduisant à une efficacité accrue.
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