Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9249030 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express est un réacteur à haute performance, à double plateau, par lots, conçu spécifiquement pour le processus de dépôt dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il dispose de deux chambres à plateaux indépendantes et autodidactes qui peuvent être utilisées en tandem ou en série, permettant d'effectuer simultanément jusqu'à quatre étapes de processus dans une chambre (c'est-à-dire pulvérisateur, gravure, CVD, etc.). Le processus séquentiel permet le débit le plus élevé d'un réacteur NOVELLUS. La capacité totale du Dual Sequel Express est d'environ 60 wafers par heure, avec un maximum de 8 wafers formant la recette du procédé. L'équipement offre une excellente uniformité avec un débit élevé. En outre, l'espace de travail est très réglable, ce qui permet aux utilisateurs d'adapter les processus pour optimiser l'uniformité des couches et améliorer la reproductibilité des dépôts. Le Dual Sequel Express intègre également un système sophistiqué de suivi automatisé des produits et des contrôles paramétriques pour s'assurer que toutes les exigences d'uniformité de la recette de processus sont respectées. Il dispose également d'une unité de distribution de gaz qui optimise le mélange et l'atomisation des gaz. En ajustant la vitesse et la pression d'injection, le Dual Sequel Express offre un contrôle accru sur les processus se déroulant dans la chambre. La conception du Dual Sequel Express garantit qu'il peut être utilisé dans une variété de matériaux et de procédés de production diélectriques. Il est compatible avec des matériaux tels que p-type et n-type Si, SiGe, et SiC. De plus, la machine est bien équipée pour supporter des matériaux avancés tels que les nanotubes de carbone, le graphène et d'autres nanomatériaux. En outre, le réacteur Dual Sequel Express dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler facilement tous les processus dans le réacteur. Cette interface intuitive permet aux opérateurs de définir rapidement et avec précision de nouvelles recettes et de résoudre facilement les problèmes qui se posent. Il dispose également d'autodiagnostics pour la maintenance prédictive, augmentant la fiabilité de l'outil. Dans l'ensemble, le CONCEPT 2 Dual Sequel Express est un réacteur à double platine avancé conçu pour le processus de dépôt dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il comprend deux chambres à plateaux indépendantes et autodidactes pour le fonctionnement simultané, un outil sophistiqué de suivi automatisé des produits, un modèle de distribution de gaz, une interface utilisateur intuitive et des autodiagnostics pour la maintenance prédictive. Sa capacité peut atteindre 60 plaquettes par heure avec un maximum de 8 plaquettes pour la recette de procédé, et son espace de travail réglable permet aux utilisateurs d'adapter le processus pour assurer l'uniformité et la reproductibilité.