Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel #9092631 à vendre en France
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ID: 9092631
Taille de la plaquette: 6"
CVD system, 6"
Software: C2.SEQ_4.92B15
Operating system: QNX4
SECS GEM: Yes
Free cable length: 75 Ft
RF Cable length: 84 Ft
Indexer firmware: 2.0_G
Transfer robot: Brooks Mag 7
Chamber location: Left
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
Chamber location: Rear
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
System main power: 3ϕ 5Wires 208V
System UPS power: 3ϕ 3Wires 120V
SMIF Interface: No
Aligner option: No
Loadlock dry pump model: No
Slit valve insert: No
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Dry pump model: No
TM Throttle valve: MKS 253B
TM BARATRON model: MKS
Front monitor: 12" LCD
Chase monitor : LCD
Loadlock BARATRON model: No
Indexer robot type: Indexer II
IOC Version: 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Software revision: 4.80 B22
Signal tower: Yes
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Module A: Express
Process A: SiH4 Base
Module B: Express
Process B: SiH4 Base
System and DLCM:
MC1 (P166 64M) System
DLCM Module controller
MSSD (2 Sequel configuration) power rack
Upgrade 4 cool station
SiH4 Base oxide process
Signal cables
RF Coaxial cables
MKS 253B throttle valve
651D Throttle valve controller
MAG 7 Transfer robot
Dual arm
Indexer robot
Animatics controller
Standard shuttle assy
Chase PC and table
Generator rack
Process module:
Chamber type: Shrink
Chamber process: SiH4 base
Process clean type: In Situ
Endpoint option: No
Module controller: MC1
Heater block type: Standard
Module dry pump: No
Manometer 1(10T): MKS 627A11TBC
Throttle valve: MKS 253B-15665
Spindle topplate type: Standard
IOC2 option: Ver 4.1
Manometer 2(100T): MKS 627A13TBC
HF Generator: RFG5500
LF Generator: PDX1400
RF Match: AE Mercury 3013
TEOS Delivery cabinet: No
IOC Version: 4.1
Foreline gate heat option: Yes
Foreline gate valve type: HVA
Chamber gas box:
Gas name MFC Size MFC Model
SiH4 1 SLM AERA 7800
N2A 5 SLM AERA 7800
N2B 10 SLM AERA 7800
N20 20 SLM AERA 7800
NH3 10 SLM AERA 7800
O2 20 SLM AERA 7800
C2F6 5 SLM AERA 7800
Module A :
Gas filters
Gas box
HF and LF RF Generators
RF Matching network
Lower spindle assy
Ferrofluidic spindle Assy
Bottom and top plates
10Torr and 1000Torr manometer
Heated type HVA gate and MKS throttle valves
Throttle valve controller
Upgrade MC1 (P166 64M) module controller
Ceramic type spindle fork assy
O-Rings
Metal parts in chamber
Watlow temp controller
Window shappire
Heater ISO box
TC gauge
MFC's
Heater block (OPM)
Shower head
RF and heater feedthru
2000-2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel est un réacteur conçu et fabriqué par NOVELLUS Systems, Inc., un des principaux fournisseurs de systèmes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à base de plasma. Le réacteur est utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de tailles sous et ultra-microns, et est bien adapté pour la production à haut volume de ces composants. Ce réacteur comprend une conception unique à double chambre qui utilise deux chambres distinctes pour déposer des matériaux sur un substrat. Le réacteur Dual Sequel utilise une pression de chambre allant jusqu'à 10 Torr pour les procédés de dépôt, allant de très faible à forte épaisseur de film. Il comprend également une unité de détection pour la surveillance constante du processus de dépôt. Pour maintenir l'homogénéité thermique à travers la plaquette, le réacteur comprend une fonction de refroidissement de la plaquette conçue pour réduire les effets néfastes des changements de température de paroi. De plus, cette caractéristique permet également d'éliminer les impuretés du procédé. Le réacteur Dual Sequel est livré avec un équipement d'interception unique, qui fonctionne en reliant les chambres de procédés entre elles via une ligne de vide partagée. Ce verrouillage assure que les deux chambres travaillent en tandem, fournissant ainsi des performances fiables et cohérentes. L'entretoise aide également à réguler la pression dans tout le système, permettant à la pression de la chambre de rester dans la plage prévue. D'autres caractéristiques comprennent une unité de distribution de gaz hautement efficace qui contribue à réduire au minimum l'utilisation des gaz de procédé. La machine fonctionne également en mode « half-on » spécial qui peut être utilisé pour accélérer le processus en exécutant une série de processus simultanément. En outre, le Dual Sequel offre également un niveau de sécurité plus élevé en raison de ses caractéristiques de sécurité avancées comme un outil de pompe de secours et un dispositif de verrouillage de sécurité. Dans l'ensemble, le réacteur CONCEPT 2 Dual Sequel est un outil CVD avancé, à haut débit et fiable qui est bien adapté à la production à haut volume de composants semi-conducteurs de petite taille. Sa conception unique à double chambre offre de plus grands niveaux de dépôt et de contrôle de la température, tandis que son atout d'interception permet un processus plus unifié et efficace. Il dispose également d'une gamme de fonctionnalités conçues pour améliorer la sécurité, minimiser les gaz de processus, et stimuler le débit.
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