Occasion NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9237572 à vendre en France
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ID: 9237572
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
CVD Systems, 8"
Mainframe
Gas box: Standard with dual divert
Robot: Express dual blade
Cool down: 3 Slots
Endpoint: Dual wavelength endpoint
Sequel chamber:
Sequel express TEOS
Sigma 6 TEOS Cabinet
(2) PFEIFFER 1600L Turbo Speed chambers
2001 vintage.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel est un réacteur avancé de dépôt en phase vapeur (PVD) conçu pour produire des revêtements de haute qualité sur divers produits. Ce réacteur est équipé d'arcs à double confinement magnétique qui produisent des ions de haute énergie, permettant une pente rapide de la couche de dépôt. Il présente également un dépôt à deux vitesses, ce qui signifie qu'il peut rapidement passer de taux de dépôt élevés à faibles. Ce réacteur flexible et économe en énergie peut être utilisé dans diverses industries pour revêtir des produits allant des pièces médicales et optiques aux pièces automobiles et aux semi-conducteurs. Concept 2 Réacteur PVD à double vitesse Sequel est composé d'une chambre, qui peut accueillir une large gamme de substrats, et d'un contrôleur, qui comprend les alimentations. La chambre est recouverte intérieurement d'orifices de gaz pour un bon confinement du plasma. Il peut accueillir plusieurs substrats à la fois, de sorte que le taux de production est élevé. Le fonctionnement sous vide est possible grâce à l'utilisation de deux étages de pompes à cryo rechargeables. Un réchauffeur résistif intégré peut encore augmenter la température du substrat, si nécessaire. Au cœur du réacteur NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel PVD se trouve la chambre à arc. Il se compose d'une construction en acier inoxydable à double paroi, et la chambre en arc est équipée de deux électrodes en arc, chacune avec plusieurs anodes. Il est également équipé d'une source d'ions. La chambre à arc est remplie à nouveau d'un gaz inerte, permettant une pente rapide et un contrôle précis du dépôt. Le contrôleur du réacteur PVD à double vitesse Concept 2 est connecté à la chambre à arc et dispose d'alimentations distinctes pour chacune des deux électrodes à arc. Il peut également être commandé manuellement ou par ordinateur. Il comprend un logiciel permettant un contrôle optimal des procédés de dépôt, tel que la préparation des paramètres en fonction du type de substrat et des caractéristiques de revêtement souhaitées. Le réacteur PVD à double vitesse NOVELLUS Concept 2 est un système PVD très avancé qui produit des revêtements de haute qualité extrêmement durables et conformes à diverses normes. Grâce à son interface conviviale et à ses capacités de dépôt flexibles, ce réacteur est idéal pour diverses applications industrielles nécessitant un revêtement précis et un contrôle précis.
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