Occasion NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9281515 à vendre en France

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour déposer des couches minces utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur double pression et double température utilise deux pompes pour contrôler la concentration en réactif, et pour contrôler les températures à l'intérieur de la chambre. La pompe à double pression permet un meilleur contrôle du débit de gaz, idéal pour optimiser les applications CVD. Concept 2 Dual Speed Sequel est un réacteur de dépôt de silicium polycristallin ; il dispose d'une zone de réaction haute pression à grande vitesse qui comporte deux pompes entre la chambre de traitement et le plénum de distribution de gaz. La première pompe est la pompe à gaz précurseur, qui achemine les précurseurs utilisés dans le procédé. La deuxième pompe est la pompe à pression réactionnelle, qui maintient une pression constante dans la zone réactionnelle, permettant ainsi un contrôle précis de la concentration en réactif. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel dispose également d'une zone de réaction haute vitesse et basse pression qui est équipée de deux vannes de débit correctement dimensionnées. La première vanne est la vanne basse pression, qui régule l'introduction de gaz de procédé dans la chambre de réaction, et la seconde vanne est la vanne haute pression, qui règle le temps de séjour et la concentration des gaz de procédé. Ces deux vannes permettent une manipulation et un contrôle précis de la vitesse de dépôt du film et de la qualité du film. Concept 2 Dual Speed Sequel dispose d'un insert double température pour permettre un chauffage et un refroidissement efficaces. L'insert double température permet d'optimiser les profils de température au sein du réacteur, permettant ainsi des rendements de production plus élevés. L'insert est équipé d'éléments chauffants étroitement espacés qui permettent un contrôle uniforme de la température et une réponse temporelle rapide. Ces éléments assurent également une température uniforme sur toute la zone réactionnelle. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel dispose d'une unité de commande avancée avec une interface utilisateur intuitive et facile à utiliser. Ce contrôleur dispose d'une interface utilisateur graphique (interface graphique), qui permet une manipulation détaillée des paramètres du processus. Cette interface graphique offre également une capacité de surveillance en temps réel, et permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres du processus à la volée. Concept 2 Dual Speed Sequel est un système avancé de réacteur CVD qui facilite le dépôt efficace et précis de couches minces. Son système double pression et double température permet un contrôle précis des paramètres du procédé, tandis que le contrôle de la température permet un rendement de production plus élevé. Le système de commande avancé est également un ajout bienvenu, car il permet la manipulation de processus en temps réel. Toutes ces caractéristiques font de NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel un outil idéal pour le dépôt de couches minces.