Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Dual Express #9361977 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Dual Express est un type de réacteur de dépôt chimique à grande échelle (CVD) utilisé dans la production de circuits intégrés. Le réacteur est une conception à double chambre qui peut fonctionner en tandem, permettant de déposer plusieurs couches de dioxyde de silicium (SiO2) et d'autres matériaux en un seul procédé. Le concept 2 suite réacteur est conçu pour fournir un moyen efficace et rentable pour les fabricants de chipmakers de construire des circuits intégrés. Le réacteur se compose de deux chambres : une chambre de procédé et une chambre de recharge. La chambre de procédé est celle où a lieu le dépôt effectif des couches de matériaux ; la chambre de recharge abrite les outils et matériaux de dépôt. Les chambres sont reliées par une série de tuyaux et de vannes, permettant le déplacement des matériaux à l'entrée et à la sortie de la chambre de procédé. Chaque chambre est équipée de son propre ensemble de capteurs et de contrôleurs de température, de pression et de débit de gaz. CONCEPT 2 Le réacteur Sequel Dual Express est conçu pour fonctionner en mode « dual express », dans lequel deux étapes de dépôt sont effectuées simultanément. Cela permet le dépôt de deux couches de matériaux à la fois, ce qui permet des temps de processus de fabrication beaucoup plus rapides et efficaces. Il permet également le dépôt de matériaux de propriétés différentes, telles que l'orientation cristalline, sans avoir à commuter entre différentes chambres de dépôt. Le réacteur est alimenté par un système de chauffage de la torche de 300mm avec un contrôle avancé de la température et de l'uniformité, permettant un contrôle précis des températures du four. Il utilise également des systèmes avancés de distribution de gaz et de filtration et de piégeage des particules. Ces fonctionnalités se combinent pour fournir un processus CVD fiable et répétable. Le réacteur est conçu pour être utilisé dans la réalisation de circuits intégrés tels que des oxydes de grille de transistors, des couches de passivation et des couches de contact. Le concept 2 suite réacteur est conçu pour fonctionner à la fois dans le cadre de la recherche et de la fabrication, où il peut fournir une solution fiable à la demande croissante de circuits intégrés de haute performance. Grâce à ses caractéristiques avancées, le réacteur offre la capacité de produire des dispositifs de qualité et de haute performance d'une manière plus rentable que les procédés de dépôt traditionnels.