Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #9243045 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express est un outil pour la technologie des réacteurs à dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il s'agit d'un équipement monobloc à faible empreinte utilisé pour le dépôt de couches minces sur des plaquettes de silicium et autres substrats. Le système utilise des algorithmes avancés de contrôle des processus et des systèmes de mouvements de tête et de substrat de dépôt de précision pour obtenir une plus grande précision, des temps de cycle plus rapides et des performances de débit améliorées. CONCEPT 2 Procédé Sequel Express permet de déposer une variété de matériaux en couches minces. Il est équipé d'une grande variété de gaz de procédé, permettant une homogénéité et minimisant la non-uniformité de la couche déposée. L'unité utilise une source de plasma à haute densité (HDP) à tranche unique pour le dépôt de films diélectriques, de couches de métallisation, de couches de passivation et de couches barrières. Le procédé HDP est amélioré par l'incorporation d'un module de focalisation du flux réactif (RFF) qui permet un contrôle indépendant du flux gazeux antioxydant. En outre, le module RFF permet la génération de profils plasma personnalisés et prédéfinis, améliorant la qualité du dépôt et le contrôle de l'épaisseur du film. La machine est également équipée d'une fonction brevetée de commande de mouvement d'étage de substrat qui est conçu pour réduire la non-uniformité sur la plaquette. Cette caractéristique permet de contrôler avec précision le mouvement du substrat et le positionnement des films adjacents. Un biais de faible énergie peut également être introduit sur le substrat, favorisant une croissance uniforme du film. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express utilise également une variété de contrôles de processus avancés pour améliorer l'uniformité et la répétabilité des processus. Il comprend des technologies telles que la commande d'inclinaison du substrat et la commande de polarisation variable du substrat, qui sont conçues pour assurer l'uniformité à l'intérieur et à travers la plaquette. En outre, l'outil dispose d'un outil de surveillance de la réflectométrie in situ multiple qui permet aux utilisateurs de mesurer diverses qualités telles que la largeur de ligne, l'épaisseur totale, le recul et la vitesse de dépôt. CONCEPT 2 Sequel Express est un puissant outil de production de CVD pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il dispose d'algorithmes avancés de contrôle des processus et de systèmes précis de mouvement de la tête de dépôt et du substrat. Il est capable de déposer une variété de matériaux à couches minces, avec un contrôle indépendant de l'écoulement des gaz antioxydants et des biais réglables du substrat. En outre, ses contrôles avancés des processus et son équipement de surveillance in situ améliorent l'uniformité et la répétabilité des processus.