Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #9256798 à vendre en France
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Vendu
ID: 9256798
Taille de la plaquette: 8"
System, 8"
Process type: PEOX
(2) Chambers
LCD Monitor, 12.1"
Signal tower type: Front Mount
DLCM:
P166/64M Module controller
Cassette transfer: Shuttle type
TM Robot: Magnatran 7 003-1600-25
Indexer robot: Indexer type II
Motor type: Belt
Animatics: CDP2407-2
Arc bar: 26 Slots
Cassette mapping: Auto mapping
MKS 750B11TCE2GK 10 Torr Manometer
GRANVILLE PHILLIPS 275 Mini convectron
TYLAN ACX3200 Throttle valve controller
Slit valve type: Loadlock VAT/CH SMC
IOC: 27-10157-00 Ver4.1
CVD1:
ADVANCED ENERGY MN3150274-004 B RF Match network
View port left/Right
RF Distribution
Gas distribution
Mix bowl type: Not heated
(6) Shower heads
Heater block
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 Torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 Torr
UE PV48W-14 Switch, vacuum, atmosphere
UE E48W-H14 Switch, vacuum, 15 Torr
End point detector VM3200 Integrated dual wavelength EPD
(3) IOC: 27-10157-00 Ver 4.1
Controller, throttle valve
Interlock PCB, CVD 02-123072-00 Rev A
P166/64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism Ferrofluidic bellows type
Process chamber 4-line type: Vertical
Process chamber exhaust type: Vertical
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400, P/N 27-028379-00 F/R C RF Generator
ADVANCED ENERGY RFG 5500, P/N 27-115617-00 F/R A Generator rack
CVD2:
ADVANCED ENERGY MN3150274-004 B RF Match network
View port left/Right
RF Distribution
Gas distribution
Mixbowl type: Temperature setting
(6) Shower heads
Heater block
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 Torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 Torr
UE PV48W-14 Switch, vacuum, atmosphere
UE E48W-H14 Switch, vacuum, 15 Torr
End point detector VM3200 Integrated dual wavelength EPD
(3) IOC: 27-10157-00 Ver 4.1
Controller, throttle valve
Interlock PCB, CVD 02-123072-00 Rev A
P166/64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism Ferrofluidic bellows type
Process chamber 4-line type: Vertical
Process chamber exhaust type: Vertical
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400, P/N 27-028379-00 F/R C RF Generator
ADVANCED ENERGY RFG 5500, P/N 27-115617-00 F/R A Generator rack
CVD1 / CVD2:
MFC (AERA):
SiH4 / FC-7800CD, 1 SLM
N2 / FC-7800CD, 5 SLM
He / FC-7800CD, 10 SLM
NH3 / FC-7800CD, 10 SLM
O2 / FC-7800CD, 20 SLM
C2F6 / FC-7800CD, 5 SLM
N2O / FC-7800CD, 20 SLM
N2 / FC-7800CD, 10 SLM
SSD:
MSSD 01-132945-00 with UPS
Power:
208 VAC, 3 Phase, 5 wires, 50 Hz, 1000 kV
208 VAC (CVCF), Single phase, UPS 50 Hz, 20 A.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express est un réacteur de dépôt avancé conçu pour offrir une flexibilité de procédé optimale et une disponibilité maximale pour le dépôt de films diélectriques, métalliques et de barrière. Sa conception très efficace permet un débit de plaquettes plus rapide à des taux de dépôt de film considérablement plus élevés. Le réacteur utilise une gamme de réacteurs tubulaires, spécialement conçus pour assurer une flexibilité de procédé rentable et un contrôle supérieur. Ses caractéristiques avancées comprennent la pulsation à grande vitesse, des temps de cycle réduits, et la capacité de gérer avec précision le dépôt de film et l'uniformité à travers la plaquette. Le réacteur comporte une chambre de traitement tubulaire qui est divisée en quatre régions de flux programmables individuellement en un seul tube continu. Cela permet de déposer plusieurs films en un seul cycle ou de traiter différentes couches dans différentes régions de flux. La chambre est capable de supporter des pressions allant du vide à la pression, ainsi que des températures allant de la température ambiante à 500 ° C En outre, il permet la manipulation des plaquettes dans les orientations horizontales et verticales. Le réacteur dispose d'un équipement avancé de contrôle de processus en boucle fermée qui fournit une gestion précise du processus pour gérer la vitesse de dépôt, l'uniformité des couches et le profil de vitesse de dépôt. Il comprend des algorithmes tels que la rétroaction et le contrôle d'alimentation, qui garantissent que tous ces aspects sont ajustés avec précision pendant le traitement. Le système permet également la surveillance et le contrôle à distance du processus. CONCEPT 2 Sequel Express est conçu pour avoir un faible coût de possession ainsi que des caractéristiques de sécurité avancées. Il est conçu pour offrir une productivité maximale tout en minimisant les risques potentiels pour la sécurité. Il est équipé d'une unité d'autoprotection ainsi que de fonctions de prévention et de limitation des erreurs pour assurer un fonctionnement sûr de la machine en tout temps. Enfin, ce réacteur est conçu pour fournir des solutions de dépôt de films rentables en temps de cycle court. Il est capable de supporter une grande variété de matériaux et est capable de changer automatiquement les ensembles d'outils, ce qui en fait un outil hautement configurable et polyvalent. Avec ses fonctions de contrôle et de sécurité avancées, son débit de plaquettes élevé et sa rentabilité, NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express est le choix idéal pour diverses applications de dépôt.
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