Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9382778 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel est un équipement de dépôt de troisième génération, conçu pour améliorer la précision, la productivité et les performances pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) très avancé conçu pour suivre le rythme implacable de l'amélioration continue dans l'industrie des semi-conducteurs. CONCEPT 2 La conception de Sequel est composée d'une chambre supérieure PVD et d'une chambre inférieure de distribution de gaz. La chambre PVD fermée est une chambre à plasma sur mesure optimisée pour les performances, tandis que la chambre inférieure est équipée d'un système de distribution de gaz qui peut créer un flux dynamique de gaz vers le matériau de revêtement. Pour maximiser la précision et la précision, la technologie de refroidissement exclusive de NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel utilise une unité de recirculation à haute pression et sans turbulence pour maintenir des températures constantes et minimiser la convection des gaz tout en offrant des conditions de dépôt très répétables. CONCEPT 2 Sequel est chargé de fonctionnalités sophistiquées pour assurer un dépôt de film cohérent et de haute qualité. Ses processus ablatifs avancés emploient l'ablation calibrée et contrôlable de taille spot pour obtenir la précision suivant le motif. Son architecture flexible et ses techniques de métrologie de pointe permettent au processeur d'adapter des recettes pour améliorer la résistance du film et la couverture des étapes, et son accord d'impédance programmé assure des résultats cohérents et reproductibles. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel intègre une multitude de capacités avancées de contrôle des processus conçues pour maximiser la stabilité et l'évolutivité des processus. Sa machine de manutention multi-faces assure un contrôle précis de la rotation et de l'accélération pour un alignement et une orientation précis des plaquettes. Il dispose également d'un outil de manipulation de substrat hautement automatisé, d'un outil de cartographie par étapes de précision, d'un bras robotique pour l'identification de substrat et d'un modèle in situ intelligent pour un diagnostic rapide et précis. L'équipement comprend des fonctions de contrôle du processus en temps réel et à action immédiate, y compris une capacité unique de détection du point final. Ces caractéristiques permettent aux opérateurs de réagir rapidement aux changements de processus, augmentant ainsi le débit et le rendement pour maximiser les avantages économiques. CONCEPT 2 Sequel est un système de dépôt efficace et fiable, conçu pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie de fabrication de dispositifs semi-conducteurs du XXIe siècle. Il est conçu pour maximiser la précision, la productivité et les performances et permettre des coûts, des débits et des rendements accrus en optimisant la stabilité et l'évolutivité des processus.