Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9397737 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel est un système de réacteur planaire multi-stations performant conçu pour fournir un environnement de processus avancé pour le dépôt, le strippage, la gravure et d'autres procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur comprend une station intégrée de gravure par plasma réactif ionique (RIE) et est une plate-forme idéale pour la fabrication de structures de dispositifs avancées. CONCEPT 2 Suite à son cœur est une grande boîte métallique qui contient un certain nombre de composants différents nécessaires pour fournir des fonctionnalités de processus. Il comprend deux chambres de traitement principales ; une chambre à plasma RF et une chambre de dépôt à base de magnétron. Il comprend également une station RIE plan multi-station. Cette station peut être utilisée pour la gravure de divers matériaux sur la surface de la plaquette, tels que des métaux, des feuilles de métaux, des oxydes, et même des matières plastiques. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel dispose de quatre chambres de traitement différentes ; une chambre de gravure pour la gravure RIE, une chambre de dépôt pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), une chambre de décapage pour le décapage chimique des matières organiques et une chambre de polissage chimique et mécanique (CMP). Dans la chambre RIE, une source d'énergie radiofréquence (RF) conduit la génération de plasma à graver directement des plaquettes avec un contrôle de processus très précis. La chambre de dépôt à base de magnétron comporte deux cathodes, dont l'une sert à générer un plasma gazeux, tandis que l'autre sert à fixer magnétiquement des particules à l'intérieur du plasma. Ce type de dépôt permet une variété de processus chimiques différents, tels que le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et le dépôt par couche atomique (ALD). CONCEPT 2 Sequel dispose également d'une chambre à bandes hautement configurable qui fournit un moyen efficace d'enlever les matières organiques des plaquettes. La chambre CMP utilise un lisier liquide à haute vitesse combiné à un tampon de polissage pour polir mécaniquement les plaquettes afin d'éliminer tout matériau indésirable et d'obtenir une qualité de surface lisse et uniforme. Dans l'ensemble, NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel est un système de réacteur avancé et performant permettant la fabrication de structures de dispositifs avancées. Avec sa station RIE à plasma planaire intégré, CONCEPT 2 Sequel est capable de réaliser une variété de différents processus de dépôt, strippage, gravure et CMP d'une manière très efficace. Ce système réactionnel est certainement une amélioration majeure par rapport aux procédés séquentiels traditionnels à chambre, ce qui en fait une plate-forme idéale pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs.