Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9402240 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel est un réacteur à haute température, à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu spécifiquement pour les procédés avancés de dépôt en couches minces. Il s'agit d'un système à double chambre avec une chambre supérieure avec un régulateur de débit massique (MFC) pour la distribution du gaz, une tête de douche chauffée pour la distribution uniforme du flux, et un générateur de plasma pour l'ionisation et l'excitation RF. La chambre inférieure du réacteur contient le suscepteur chauffé à la température de dépôt du substrat, et un contrôleur électronique de pression (CPE) pour maintenir un niveau de vide stable à l'intérieur du réacteur. Le système est conçu avec une série de voies d'écoulement de processus et de mécanismes de contrôle de la température, pour permettre la stabilité et le contrôle de la température, et l'uniformité du dépôt de couches minces. CONCEPT 2 Suite utilise une combinaison de flux gazeux et d'excitation plasma pour déposer des couches minces de divers matériaux. Il offre la capacité de déposer des films minces de divers matériaux, tels que le silicium polycristallin, l'aluminium et le cuivre, avec une grande pureté et résolution. La chambre supérieure du réacteur est le lieu de fonctionnement des flux gazeux, et la chambre inférieure est le lieu de dépôt du substrat. La tête de douche chauffée est utilisée pour répartir uniformément les gaz réactifs chauffés sur le substrat. L'excitation RF des gaz réactifs crée un plasma, ce qui augmente la réactivité et augmente la vitesse et l'uniformité des dépôts. Le régulateur de pression électronique (CPE) fonctionne dans la chambre inférieure pour maintenir une pression constante dans le réacteur au niveau souhaité. La régulation de température est également une caractéristique clé de NOVELLUS CONCEPT 2 Suite. Le suscepteur est chauffé dans la chambre inférieure, et la température est répartie uniformément à travers des barres de commande. Le système de surveillance de la température permet à l'utilisateur d'ajuster les niveaux de température et la vitesse de réaction pour assurer un dépôt de haute qualité du film mince. CONCEPT 2 Sequel est conçu pour être facile à utiliser, avec une interface utilisateur intuitive et une surveillance et un contrôle automatisés. C'est un outil polyvalent pour le dépôt en couches minces, avec une grande vitesse, uniformité et fiabilité pour les applications avancées.