Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Speed Shrink #9294359 à vendre en France

A NOVELLUS CONCEPT 2 Speed Shrink est un type de réacteur à dépôt physique en phase vapeur (PVD) à haute vitesse et haute performance utilisé dans les industries semi-conductrices et les industries manufacturières connexes. Il est capable de déposer plusieurs films utilisés pour l'interconnexion, la fabrication de dispositifs et la protection de dispositifs. Le réacteur Concept 2 est une chambre « flottante » optiquement et mécaniquement avancée, utilisant des composants dynamiques ultra-rigides pour réduire les vibrations et maximiser le débit. Le Concept 2 utilise un équipement avancé de dépôt de films PVD, permettant le dépôt de films d'aluminium, de tungstène et de cuivre dans un seul outil. L'opérateur est capable de fixer la vitesse de dépôt, l'épaisseur cible et la composition de la couche, ce qui permet des films reproductibles et fiables. En outre, le Concept 2 peut produire une large gamme de films tels que des oxydes, des nitrures et des silicures métalliques. Pour améliorer l'homogénéité des films, le Concept 2 utilise un système de magnétron à bobine avancé. Cette unité utilise deux magnétrons, l'un pour créer le plasma de pulvérisation et l'autre pour neutraliser les électrons dans la chambre, ce qui conduit à des films uniformes à faible génération de particules. De plus, le Concept 2 utilise des contrôles de processus internes avancés pour permettre le réglage des recettes et l'optimisation des processus. Le Concept 2 comprend une machine à napper laser infrarouge pour un alignement supérieur du substrat. Cet outil peut ajuster avec précision la tour de surface de la plaquette à 10 μ m du plan de conception. L'actif dispose également de capacités de restauration de plaquettes avancées, permettant d'empiler jusqu'à 10 films différents en une seule fois. Les paramètres du procédé peuvent être ajustés en fonction des films particuliers déposés, d'où des épaisseurs et une composition répétables. En termes de sécurité, NOVELLUS Concept 2 dispose d'une fonction de sprayback qui ferme le gaz de la chambre lorsque le modèle de commande remarque une montée en pression dangereuse. De plus, l'équipement dispose d'un système d'épuration agressif pour garantir des niveaux d'émission sûrs de particules potentiellement nocives. De plus, les gaz de procédé peuvent être isolés et surveillés dans des branches distinctes pour une maintenance aisée. Dans l'ensemble, le réacteur CONCEPT 2 Speed Shrink est un outil PVD avancé, capable de déposer plusieurs films avec une excellente uniformité et répétabilité. C'est un outil clé dans les industries semi-conductrices et connexes pour sa capacité à produire des films haute performance avec des caractéristiques de sécurité supérieures.