Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9075495 à vendre en France
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ID: 9075495
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2004
HDP CVD System, 8"
Type: Shrink
Process: STI / IMD
Wafer shape: Notch
Module A: shrink
Module B: shrink
Module B: shrink
MKS Load lock baratron
TM Robot: Mag 7
Ceramic TM Robot blade
MC1 Module controller
Existence wafer sensor
EMO: Turn to release
SECS
IOC Version: 4.1
LCD Front monitor, 12"
DLCM Gas MFC:
UPC1(L L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
UPC2(R L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
MFC3 Ar/He 500 Sccm Brooks 5964
Chamber (A, B, C):
Chamber Type: Shrink
Chamber Process: STI / IMD
MC1 Module controller
Throttle valve: MKS 651D
HF Generator: AE RFG5500
IOC Version: 4.1
Pedestal lift type: Dual position
Module turbo pump: Pfeiffer TMH 2101 PCX
ESC / Dome cooling: PCW
LF Generator: AE PDX 8000
Dual clean injector kit
Fore line type: Universal
ESC Type: DS1
Manometer 1(10T): MKS629B
Manometer 2(10T): MKS629B
Manometer 3(100 m): MKS750B
Process clean type: In situ
RF Match: MECURY 3013
Injector type: Single
Injector Size,1"
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 STEC
MFC 2 O2 500 STEC
MFC 3 NF3 1000 STEC
MFC 4 SiH4 200 STEC
MFC 5 HE 1000 STEC
MFC 8 H2 2000 STEC
System main power: 3-208 V
System UPS Power: 3-120 V
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump model: Pfeiffer TMH 260
TM Throttle valve model: Tylan
MKS TM Baratron model
2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed est un réacteur de polissage mécanique chimique (CMP) utilisé pour aplanir des surfaces de plaquettes semi-conductrices. Il est utilisé pour diverses tâches telles que l'élimination de l'attente, des rayures et d'autres contaminants pour créer des surfaces extrêmement uniformes et lisses. CONCEPT 2 Speed est conçu avec une empreinte très compacte et efficace, ce qui le rend facile à installer dans tout type d'espace de travail. Ce réacteur dispose de deux porte-plaquettes haute précision et haute vitesse qui peuvent traiter jusqu'à deux plaquettes de 300mm en un seul cycle. Il dispose également d'un bras robotique avancé pour le chargement et le déchargement des plaquettes, assurant un traitement cohérent et efficace. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed peut gérer la plupart des séquences de polissage, y compris les décolmateurs, les amincisseurs, les condenseurs et les lubrifiants. Ce réacteur utilise une configuration flexible à deux axes avant-arrière magnétiques, ce qui permet un réglage indépendant des deux axes. Cette flexibilité permet un contact et un contrôle de processus optimaux. Il comprend également de nombreux capteurs qui peuvent détecter les niveaux de contamination, les conditions de processus et la température du coussin. CONCEPT 2 Speed dispose également d'un puissant système d'épandage de boues qui distribue rapidement et uniformément les boues liquides pendant le traitement. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed est équipé de plusieurs technologies innovantes qui visent à améliorer ses performances. Ce réacteur comprend un module de cartographie des plaquettes qui permet de créer des cartes précises de sa nature détaillant la couche superficielle de la plaquette. Il dispose également d'un système de surveillance de l'épuisement du lisier qui surveille la quantité de lisier restante, empêche le surpolissage et surveille les performances du système. Dans l'ensemble, CONCEPT 2 Speed est un réacteur CMP avancé qui offre des performances et une fiabilité améliorées pour les applications de polissage à haut volume. Il est conçu pour être très efficace et nécessite une interaction minimale de l'opérateur, ce qui en fait le choix idéal pour les applications CMP de précision.
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