Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9093692 à vendre en France
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ID: 9093692
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2005
CVD, HDP System, 8".
Wafer shape: Flat
SMIF Interface: No
PET Module: Yes
Aligner option: No
System main power:
208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 5 wires
3-Phase full load current: 10 amps
Max component current: 5 amps
System UPS Power: Yes
Silt valve insert: No
Silt valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump bodel: Pfeiffer TMH260
TM Throttle valve model: MKS
TM Baratron model: MKS
Loadlock baratron model: MKS
IOC Version: V 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Existence
Signal tower: Yes
EMO's: Push button
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Front monitor: LCD Monitor
MFC1, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC2, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC3, Ar/H2, 500 Sccm, Brooks 5964
Sys con: C2-SCON-6582
Signal cable
Chase computer
Module A, B, and C:
Chamber type: Shrink
Chamber process: ILD
Process clean type: In situ
Module controller: MC1
Module turbo pump: Pfeiffer TPH2101 PCX
Manometer 1 (10 T): MKS
Throttle valve: MKS
ESC / Dome cooling: PCW
Temp monitoring: NTM500C
Manometer 2 (10 T): MKS
HF Generator: AE RFG5500
LF Generator: AE PDX 5000
RF Match: Trazar AMU10E-2
Manometer 3 (100 m): MKS
IOC Version: 4.2
Dual clean injector kit: Yes
Injector type: Single
Louvered screen: No
Pedestal lift type: Dual position
Foreline type: Standard
NF3, 1 slm, Aera FC-D980C
Ar, 500 sccm, Aera FC-D980C
O2, 500 sccm, Aera FC-D980C
H2, 2 slm, Aera FC-D980C
HE, 500 sccm, Aera FC-D980C
SiH4, 200 sccm, Aera FC-D980C
Deinstalled
2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed (C2S) est un réacteur à deux chambres à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu spécifiquement pour le dépôt de couches minces pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est utilisé pour déposer des métaux et des composés tels que le silicium, le tungstène et les nitrures sur des circuits intégrés, ou IC. Le C2S est conçu pour fournir aux utilisateurs un outil fiable et à haut débit qui est spécialement conçu pour l'optimisation avancée des processus. Le réacteur C2S comporte deux chambres, séparées par une cloison, et utilise un équipement chimique d'injection de vapeur pour introduire des réactifs dans la chambre de traitement. Les deux chambres sont conçues pour fonctionner simultanément à des pressions, températures et débits différents. Ceci permet d'optimiser tous les paramètres nécessaires pour obtenir la vitesse de dépôt en couches minces souhaitée et l'uniformité de la couverture. Le C2S utilise de l'argon d'ultra-haute pureté pour pressuriser la chambre et favoriser le flux de gaz lisse, ainsi qu'un substrat chauffé (2200 ° C) et un système de pulvérisation pour atteindre les taux de dépôt les plus élevés. L'unité est conçue pour être extrêmement précise, avec un contrôle de processus en plusieurs points pour assurer le plus haut niveau d'uniformité sur la surface du substrat. Un contrôleur informatisé est également prévu pour permettre aux utilisateurs de contrôler et d'ajuster facilement les paramètres de pression, de température et de débit au besoin. Le C2S est équipé de plusieurs technologies de pointe pour améliorer le processus, y compris la technologie NOVELLUS Close Space Sublimation (CSS). Cette technologie permet aux utilisateurs de déposer directement plusieurs couches de tungstène et d'autres films métalliques réfractaires, à un taux de dépôt plus élevé que les procédés CVD traditionnels. Il élimine également la nécessité d'étapes de gravure, ce qui réduit à la fois le coût et le temps de cycle. En outre, le C2S peut être intégré avec NOVELLUS Endura CVD Machine, qui est conçu pour fournir une couverture uniforme à des taux de dépôt plus élevés avec une meilleure précision de contrôle du processus. Cet outil permet également aux utilisateurs de surveiller, contrôler et optimiser les paramètres et les processus de dépôt en temps réel, ce qui se traduit par un meilleur contrôle des défauts et une augmentation du rendement. Le rapport coût/performance élevé et les fonctionnalités personnalisables offertes par le C2S en font un choix idéal pour une large gamme d'applications de fabrication avancées. Le contrôle de processus ajouté permet aux utilisateurs de faire fonctionner l'actif à des vitesses plus élevées tout en conservant l'uniformité souhaitée sur la surface du substrat. Avec ses performances fiables et ses fonctionnalités de personnalisation, le réacteur CONCEPT 2 Speed offre aux utilisateurs une solution efficace et rentable pour la production de dispositifs avancés à couches minces.
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