Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9105955 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Speed reactor est un équipement avancé de fabrication de semi-conducteurs utilisé dans la production de circuits intégrés (IC). Le système est conçu pour produire des appareils de haute performance qui sont à la fois rentables et répondent aux normes de qualité les plus élevées. L'unité intègre une combinaison unique de technologies avancées de gravure, de dépôt et de traitement de surface. La machine est bien adaptée à la production d'une large gamme de circuits numériques, analogiques, RF, opto-électroniques, MEMS et Power. Au cœur de l'outil se trouve une chambre de résonance quantique (QRC). Il s'agit d'un outil de gravure avancé, ultra-haut vide et haute résolution, capable d'effectuer des gravures précises et reproductibles dans un large éventail de matériaux et sur divers substrats. Le QRC est capable de produire les géométries les plus difficiles avec des tailles de caractéristiques aussi petites que 10 nm. Il est également capable de produire des motifs latéraux et verticaux submicroniques avec des valeurs de planéité et de LER qui sont inégalées dans l'industrie. Le CRQ est complété par le module de dépôt rapide CONCEPT 2 (NDM). Cette plate-forme technologique est conçue pour des taux de dépôt élevés et une uniformité de film supérieure. Le modèle est capable de déposer une grande variété de matériaux, y compris du silicium polycristallin, du métal, des oxydes, des nitrures et des isolants. Il peut également fournir une grande variété de films spécialisés et permettre la fabrication de 3D-structures avancés. De plus, le NDM est conçu pour maximiser le débit et minimiser le temps de cycle des plaquettes. Pour ce faire, le NDM est capable de charger et décharger simultanément jusqu'à 300 plaquettes dans quatre chambres différentes. Il est également capable d'effectuer plusieurs flux de travail en parallèle et peut être interfacé avec plusieurs systèmes de contrôle de processus. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed a été conçu pour répondre aux exigences les plus strictes sans contaminant, y compris les exigences de contamination des particules jusqu'à 0,15 microns. L'équipement est capable de produire le nombre de processus d'imagerie et de gravure spécialisés, tels que le décollage, l'évidement, l'opale SiN et la gravure profonde. Le système offre également des processus spécialisés FIB et e-beam. Dans l'ensemble, CONCEPT 2 Speed Reactor est une unité de fabrication avancée, performante et économique qui offre la flexibilité et la précision inégalées requises pour produire des CI de pointe.