Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 TiN #9206612 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 TiN
Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT 2 TiN
ID: 9206612
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Metal CVD system, 8" 2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 TiN (Thermal Intelligent Nitrogen) est un réacteur de traitement plasma offrant un dépôt optimisé de couches minces conformes sur de grandes tailles de substrat. Il présente à la fois des caractéristiques de haut débit et d'homogénéité élevée. CONCEPT 2 Le réacteur TiN est fabriqué par NOVELLUS Systems, Inc. et est doté d'une conception unique qui utilise le plasma d'azote thermique intelligent (TIN) pour assurer un dépôt uniforme sur de vastes sites. La conception comprend une chambre à haute température dans laquelle une atmosphère d'azote est maintenue. Cet environnement est encore optimisé par l'ajout d'une alimentation en courant continu pulsé qui crée un champ électrique de haute densité et de faible gaine. La combinaison unique de la température, de la pression et du champ électrique dans la chambre permet un contrôle précis des niveaux d'énergie des électrons, assurant la stabilité et l'uniformité du processus de dépôt. Le gaz est chauffé à une température comprise entre 200 et 300 ° C, puis traverse une série d'électrodes dans la chambre à plasma. Les électrons sont alimentés et ionisés, ce qui donne un environnement plasma à haute densité et stable. Le processus de dépôt commence par la vaporisation des matériaux sources, puis le transport du matériau vaporisé dans l'atmosphère d'azote. En atteignant les parois de la chambre, il se produit une gravure par plasma. Les ions plasmatiques générés se déposent alors au niveau du substrat et réagissent avec les atomes de surface, créant le film désiré. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 TiN dispose également de niveaux de puissance réglables, permettant à l'ingénieur du procédé d'affiner la vitesse de dépôt pour répondre aux besoins de chaque application spécifique. Le réacteur TiN CONCEPT 2 est idéal pour les dépôts à haut débit avec une homogénéité exceptionnelle. Ses paramètres de fonctionnement avancés permettent un contrôle précis des niveaux d'énergie des électrons, assurant un dépôt précis et un rendement accru. L'efficacité et la précision du réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 TiN en font un choix idéal pour le dépôt de couches minces conformes sur de grandes tailles de substrat.
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