Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 Triple Speed #9096021 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Triple Speed est un réacteur CVD conçu pour des applications d'épitaxie à haute productivité (HPE) et de lithographie avancée. Il est conçu pour fournir des performances CVD supérieures et est capable de taux de dépôt extrêmement élevés avec 200 nm/min uniformité et 0,5 nm/min non uniformité spécifications. Il dispose de trois niveaux de puissance qui peuvent être ajustés pour permettre une croissance optimale et la planéité de surface de toutes les structures epi applicatives. Le réacteur Triple Speed fonctionne sur une chambre de réaction à trois étages, où chaque niveau représente différents niveaux de puissance. Tout d'abord, un étage de substrat de faible puissance est utilisé pour diminuer le risque de surproduction cristalline et améliorer la planéité de surface. La deuxième étape est un plasma moyen puissant afin de créer des conditions de croissance uniformes. Enfin, un plasma d'hydrogène de forte puissance est utilisé pour la conformation intercalaire. De plus, CONCEPT 2 Triple Speed est équipé de la technologie TurboStar, qui favorise le dépôt accéléré en créant une poche plasma focalisée basée sur la phase de la chambre de réaction. Ceci augmente les vitesses de traitement tout en conservant une uniformité et une conformité élevées. Le réacteur Triple Speed est également conçu pour être compatible avec un certain nombre d'outils d'addition avancés et d'optique lithographique. Sa structure peu coûteuse assure un entretien minimal et des économies à long terme. NOVELLUS CONCEPT 2 Triple Speed est idéal pour ceux qui cherchent à améliorer leur processus de fabrication en offrant des temps de cycle plus rapides, un rendement amélioré et une répétabilité élevée.