Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #293616585 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 (NC2) est un réacteur conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est constitué d'un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de 6 pouces, capable de réaliser des procédés de dépôt à très haut débit. Son débit élevé, son faible coût et sa flexibilité en font un outil idéal pour la montée en puissance de la production et la migration technologique. Le NC2 a une capacité brevetée de procédé pulsé/continu, qui combine les avantages des deux types de dépôts. Avec le traitement pulsé, la température est maintenue tandis que les lasers sont appliqués de manière pulsée pour réduire la teneur en azote. Un traitement continu est réalisé lorsque les impulsions laser sont émises en continu de manière uniforme. Cette combinaison de techniques permet de contrôler et d'optimiser exceptionnellement la vitesse de croissance, la composition chimique et l'épaisseur du film. Le NC2 dispose également d'une chambre de processus à flux divisé innovante, qui améliore la conformité pour les dépôts ultra-minces. La chambre à flux divisé maintient une limite entre deux flux de gaz qui permet une grande uniformité de conformité et une épaisseur de film uniforme avec des vides minimaux. La chambre à flux divisé est idéale pour les températures de dépôt typiques de 350-450C et permet la production de revêtements uniformes de haute qualité, même sur des substrats difficiles. Le NC2 dispose d'un équipement à paroi froide à résistance zéro couplé à un système avancé d'adhérence sur film. Cet élément de paroi froide à résistance zéro se traduit par des taux de dépôt plus élevés, une uniformité accrue de la température de la plaquette et une plus grande uniformité de l'épaisseur du film sur toute la hauteur de la plaquette. L'unité d'adhérence adaptative permet de réduire la non-uniformité due aux adsorptions, assurant ainsi une formation optimale du film. Le NC2 est bien équipé pour relever les défis de nombreuses technologies de fabrication avancées. Il a une capacité de pré-gravure et de post-gravure module d'arme, permettant le dépôt de couches avec une extrême conformité. En outre, des sources de rayonnement secondaires peuvent être ajoutées au NC2 pour étendre encore ses capacités. Cela en fait un outil idéal pour l'évolution technologique et la production pilote de dispositifs à mémoire non volatile, d'écrans OLED, de biocapteurs, et plus encore. En conclusion, CONCEPT 2 offre une solution innovante et rentable aux défis de la fabrication de semi-conducteurs. Son procédé continu/impulsions breveté offre un excellent contrôle du processus et l'uniformité du film. Sa chambre à flux divisé augmente la conformité sur les dépôts ultra-minces. Sa paroi froide à résistance zéro et sa machine d'adhérence avancée offrent une plus grande uniformité sur toute la hauteur de la plaquette et une non-uniformité réduite du dépôt de film. Enfin, ses sources secondaires ajoutent un outil puissant à l'arsenal des technologies de fabrication avancées.