Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #293622194 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour fonctionner avec des conditions extrêmes de puissance, de température et de vitesse. Cet équipement offre une uniformité de dépôt de film et un contrôle précis des couches de matériaux métalliques et diélectriques ultra-minces, ce qui le rend idéal pour des applications optiques, électroniques ou semi-conductrices avancées. La conception unique de CONCEPT 2 comprend une combinaison de réacteurs à flux radial et linéaire, ainsi qu'une construction à paroi froide et une conception avancée de suscepteur pour l'uniformité et la durabilité. Le réacteur à flux radial et le suscepteur sont conçus pour une utilisation efficace de l'énergie thermique et de flux, ce qui contribue à réduire le temps de refroidissement. Ceci maximise la température du substrat et minimise le temps de cycle, ce qui permet une homogénéité supérieure du dépôt du film. NOVELLUS CONCEPT 2 comprend également un système de refroidissement avancé de plaquettes qui peut réduire rapidement la température du substrat pour obtenir une répartition uniforme du matériau sur la surface. L'unité utilise également une machine intégrée de contrôle de la température et du débit pour maintenir la stabilité de la température et du débit du procédé à travers le réacteur. Cela garantit des résultats dynamiques, cohérents et répétables tout au long de la vie du réacteur. Un outil de métrologie de pointe aide à surveiller tous les paramètres critiques du processus, et offre des mesures de haute précision, y compris l'épaisseur de la couche, les niveaux de dopage, les taux de gravure, la forme des plaquettes et le potentiel de contact. Cet atout permet également d'assurer des temps de cycle élevés et faibles en surveillant en permanence l'uniformité des dépôts, le débit vestimentaire et d'autres paramètres du substrat. CONCEPT 2 dispose d'une architecture de plate-forme innovante qui offre modularité et évolutivité pour les applications les plus exigeantes. Avec son large éventail de capacités et ses fonctionnalités avancées, ce modèle est idéal pour les applications qui nécessitent une homogénéité de film supérieure, un contrôle précis des couches et des temps de cycle réduits. Utilisé dans des applications micro-électroniques, optiques avancées, biomédicales ou grand public, NOVELLUS CONCEPT 2 offre un niveau exceptionnel de flexibilité et de précision des procédés.