Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9071449 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur CVD utilisé principalement pour le dépôt de films de dioxyde de silicium pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. Il s'agit d'un procédé de dépôt simple, utilisant un type de mélange gazeux constitué d'oxygène et de silane, également appelé siloxane. Le mélange gazeux pénètre dans la chambre à partir de l'alimentation en gaz puis traverse la zone réactionnelle. Ici, le gaz silane est décomposé par la chaleur générée par le courant électrique traversant la zone réactionnelle. Ensuite, les sous-produits oxygène et dioxyde de silicium sont déposés sur la surface de la plaquette. Le réacteur CONCEPT 2 assure le dépôt direct, grâce à la forme cyclique à courant continu générant un champ électrique à travers l'interface gaz/solide, ce qui accélère la réaction à la surface de la plaquette. Le dépôt résultant se produit à une vitesse rapide et est uniforme sur toute la tranche. NOVELLUS CONCEPT 2 assure également un contrôle indépendant de la température, de la pression et du débit de gaz dans la chambre. Le réacteur CONCEPT 2 est composé d'une chambre de réaction à quartz thermiquement isolée, d'un élément de chauffage électrochimique, d'un équipement d'échappement, d'une pompe à vide, d'un système de distribution de gaz et de systèmes de contrôle et de surveillance. L'élément de chauffage électrochimique utilise le courant électrique produit dans la zone de réaction pour chauffer la chambre de réaction, tandis que l'unité d'échappement agit pour éliminer les sous-produits générés. La pompe à vide fournit la pression épuisée nécessaire dans la chambre pour la réaction, tandis que la machine de refoulement de gaz alimente les mélanges de gaz nécessaires. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 présente plusieurs avantages par rapport aux autres procédés CVD. Tout d'abord, il nécessite un entretien minimal et peut être utilisé à basse température et pression. De plus, en raison de sa génération de forme cyclique en courant continu, il a une vitesse de dépôt plus rapide et offre une meilleure uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Enfin, elle a une consommation relativement faible, ce qui, associé à ses faibles besoins en maintenance, en fait une option hautement viable pour des applications industrielles.