Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9100803 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour être utilisé dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. Il est le précurseur de NOVELLUS Concept 3 et l'une des premières plates-formes à introduire l'utilisation de sources toriques bi-diélectriques. Il est particulièrement adapté pour des applications telles que le CVD métalorganique et le dépôt sélectif, ainsi que pour des procédés à basse température tels que le dépôt de phosphore et de nitrure de silicium. CONCEPT 2 est un réacteur CVD en ligne conçu pour fournir une productivité élevée, l'uniformité des processus, et la fiabilité de l'équipement. Le système utilise des sources toroïdales bi-diélectriques pour augmenter la surface efficace du substrat et réduire les niveaux de particules générées dans le réacteur. Cette caractéristique permet d'augmenter le nombre total de plaquettes de substrat et le débit sans sacrifier les performances. La chambre à quartz thermiquement durable offre un excellent contrôle de la température, avec le potentiel d'atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C La chambre a également été prouvée pour soutenir efficacement de multiples cycles de processus, permettant de multiples courses sans avoir besoin d'être réparé ou emballé. NOVELLUS CONCEPT 2 utilise sa source d'énergie pulsée bidimensionnelle pour soutenir une variété de recettes de processus. Cette technologie permet des recettes de processus entièrement optimisées et adaptées aux exigences de chaque substrat. Cela offre aux utilisateurs la capacité unique de contrôler les profils de gravure, l'uniformité des dépôts, le contrôle de la largeur des lignes et les profils de température sur l'ensemble de la plaquette. De plus, les options de réparation et de dépôt robustes de CONCEPT 2 permettent des composants d'appareil personnalisables de haute précision. Avec NOVELLUS CONCEPT 2, les utilisateurs peuvent également bénéficier de son unité automatisée de transfusion de plaquettes. Cela garantit que toutes les plaquettes de substrat sont alignées, centrées et positionnées à travers plusieurs réacteurs via un convoyeur mécanique précis, utilisant une technologie éprouvée de direction de faisceau collimaté sans contact pour transférer les plaquettes entre les chambres. CONCEPT 2 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur extrêmement impressionnant. Avec ses sources toroïdales bi-diélectriques, ses capacités de réparation et de dépôt robustes, sa source bidimensionnelle d'impulsions et sa machine automatisée de transfert de plaquettes, les utilisateurs peuvent bénéficier d'un plus grand niveau de productivité, d'uniformité et de fiabilité des outils.