Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9113843 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé principalement pour le dépôt de couches de matériaux sur divers substrats. Il est capable de réaliser des procédés CVD à basse température, ainsi que des procédés CVD à haute température, pour le dépôt de films métalliques et semi-conducteurs. Il est également équipé d'un système de suivi et de contrôle des processus. CONCEPT 2 utilise deux têtes de douche à quartz montées horizontalement avec trois sources de dépôt pour déposer des couches de matériaux sur des substrats. La tête de douche à quartz est entourée d'une chambre de réflexion annulaire qui est chauffée à l'aide d'un élément chauffant électrique. Les substrats sont placés sur un porte-substrat chauffé à l'aide d'une lampe infrarouge à gaz et d'une enceinte. Les gaz utilisés dans le dépôt sont dosés, mélangés et livrés à la chambre de dépôt à l'aide de régulateurs de débit massique et d'un régulateur de débit automatique. NOVELLUS CONCEPT 2 est équipé d'une large gamme de diagnostics conçus pour surveiller le processus CVD. Sont inclus une variété de détecteurs infrarouges, thermocouples, microbalances à cristaux de quartz et oscillateurs à cristaux de quartz. Ces diagnostics permettent d'identifier rapidement les espèces chimiques présentes dans la réaction CVD et d'ajuster les paramètres du procédé afin d'assurer l'uniformité des films de dépôt. De plus, le CONCEPT 2 est équipé d'un système informatique qui permet de contrôler le procédé de dépôt et de suivre l'historique du procédé. Les utilisateurs sont en mesure de modifier les paramètres du processus en temps réel, ce qui permet d'effectuer les ajustements nécessaires. Le système permet également aux utilisateurs d'entrer et d'accéder à une variété de recettes qui permettent l'exécution de programmes automatisés. NOVELLUS CONCEPT 2 est un outil polyvalent capable de produire une large gamme de dépôts de précision pour diverses applications. Il s'agit d'un composant essentiel de la fabrication de semi-conducteurs et de technologies de l'information, permettant un dépôt uniforme de matériaux pour toute une série d'applications.