Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9167960 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur de gravure et de dépôt haute performance optimisé pour les chambres de rentrée. Cet équipement améliore les processus de gravure et de dépôt pour les applications avancées de lithographie. Il offre une homogénéité supérieure des substrats, une flexibilité accrue des procédés et un excellent contrôle des procédés. CONCEPT 2 utilise un bilan de charge optimisé, en moyenne volumique, qui réduit la perte de charge due à la charge présente dans le système. Le bilan de charge est indépendant de la pression dans l'unité, d'où une homogénéité exceptionnelle sur le substrat. Il offre en outre une excellente flexibilité de processus, permettant des changements de processus rapides et un réemballage des plaquettes. Une grande variété de gaz peut être utilisée pour les processus de gravure et de dépôt sans avoir à recharger les systèmes de gaz de procédé. Ce niveau de flexibilité permet l'utilisation de configurations de chambres multiples. NOVELLUS CONCEPT 2 utilise la technologie RF pour le dépôt. Cette machine offre une maniabilité supérieure sur la vitesse de dépôt à travers le substrat. En faisant varier la puissance RF, on peut ajuster précisément la vitesse de dépôt en fonction des besoins en vitesse de dépôt. Elle permet également des taux de dépôt inférieurs aux normes pour une meilleure performance du procédé, une meilleure uniformité des plaquettes et un débit plus élevé. CONCEPT 2 offre une conception innovante de verrouillage de charge qui réduit les temps de cycle de processus. Il présente également une nouvelle conception de source de plasma inductif (ICP), qui permet des améliorations spectaculaires de l'uniformité des processus. Cet outil utilise également une nouvelle architecture de conception et d'entraînement du moteur, qui peut réduire les niveaux de vibration tout en augmentant l'uniformité des pulvérisateurs. En bref, le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un actif de gravure et de dépôt avancé et hautement capable, conçu pour être utilisé dans les chambres de rentrée. Il offre une uniformité de substrat supérieure, la flexibilité du processus, le contrôle du processus, et le débit. Il est optimisé pour une utilisation avec des technologies de procédé classiques et avancées, fournissant une excellente plate-forme pour les applications modernes de gravure et de dépôt.