Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9186060 à vendre en France
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ID: 9186060
Taille de la plaquette: 8"
CVD System, 8"
Sequel chamber
Modified reduced foot print frame
Missing parts:
Meter, DC, press, digital, leak back
Switch / Gauge photohelic
Gas lines plumbing (ALL)
MFC Cable (ALL)
Gas box cabling (ALL)
Numerous system cable (99% Gone)
Lower lift / Rotate assembly (Spindle)
Top plate: Except (4) panels
Intact items or present items:
Vacuum general adapter AC-2
EUROTHERM Heater controller
Heater feed through
RF Isolated TC (Filter)
Valve, throttle, vacuum control
Valve, gate, high vacuum
Upper spindle assembly
Heater block
(5) Shower heads
Fork plate / Ceramic forks
MYKROLIS MFC Gas panel (No plumbing)
Top plate: Lift assembly
Local power box (LPB)
Mega pac: MP5-95532
IOC 27-10318-00 Rev B
Shunt cap (For tune)
Temporary / Pressure control box.
NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) monocouche conçu pour répondre aux besoins exigeants de l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur CONCEPT 2 est capable de réaliser des procédés avancés à des vitesses de débit plus élevées afin d'obtenir des rendements plus élevés et des coûts de produits plus faibles. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est conçu pour des procédés de dépôt incluant des films à base de tungstène et de silicium, tels que Ti/TiN, SiOC et BCB. Le réacteur offre des performances supérieures sans compromettre le rendement. Il dispose d'une configuration de conception unique avec une puissante tête électro-dynamique conçue pour mieux contrôler les conditions de la chambre de processus. Il est équipé de plusieurs électrodes internes pour une meilleure uniformité et une réduction des interférences électromagnétiques. Le réacteur CONCEPT 2 peut également se connecter facilement à d'autres outils de dépôt à l'aide du robot de transfert. NOVELLUS CONCEPT 2 est disponible dans un diamètre de 6 pouces ou 8 pouces et offre une variété d'options de processus, y compris le traitement monobloc, lot, multi-zone et multi-chambre. Il utilise un système de régulation de température multi-segments en temps réel pour le contrôle précis du processus et la stabilité. Le système est alimenté par un processeur embarqué série haute performance pour un fonctionnement optimal. CONCEPT 2 supporte à la fois l'injection continue de gaz céramique et le dosage à la demande avec son injecteur M4. Il dispose également d'un système périphérique d'air de refroidissement qui peut être fixé aux soupapes d'admission et d'échappement pour réduire la charge thermique indésirable et fournir un environnement de processus propre et sans poussière. NOVELLUS CONCEPT 2 peut être facilement intégré dans des systèmes nouveaux ou existants avec son logiciel puissant et intuitif. Les gains et les paramètres du processus sont facilement établis et contrôlés, et les données du processus en temps réel peuvent être utilisées pour détecter les problèmes potentiels et maximiser les rendements. Dans l'ensemble, CONCEPT 2 est un réacteur CVD efficace et performant pour les procédés avancés. Il est conçu avec une précision et des performances exceptionnelles, et avec son logiciel intuitif et un contrôle de processus avancé, il est un excellent choix pour atteindre des rendements élevés et des coûts de produit plus bas.
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