Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9188214 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur continu monobloc qui offre aux fabricants une approche innovante de la production de haute qualité de dispositifs microélectroniques. C'est un système unique fournissant des solutions dans les opérations de dépôt, d'oxydation, de nitridation et de gravure et permet une uniformité sans précédent avec un débit maximal. Le réacteur CONCEPT 2 est composé d'une chambre à vide, d'une source de plasma RF, d'un générateur de plasma inductif couplé, d'un porte-plaquettes à l'état solide unique et d'un ensemble de modules de procédé. La chambre est isolée thermiquement de l'électronique environnante, tandis qu'un système interne de tuyau lumineux et d'obturateur permet de visualiser le procédé à l'intérieur du réacteur. La source de plasma RF est le cœur de NOVELLUS CONCEPT 2 et consiste en des conceptions à trois niveaux pour des procédés de gravure à prédominance oxyde, nitrure ou. Il aide à maintenir un équilibre optimal de l'énergie et du flux d'ions à travers la plaquette pour un contrôle précis des dépôts couche par couche et une uniformité supérieure. La source de plasma embarquée couplée inductivement est capable de générer différentes espèces radicalaires pour les opérations de gravure ou de nettoyage. Le porte-plaquettes à l'état solide est un élément clé du CONCEPT 2, fournissant un mécanisme rapide et fiable de transfert de plaquettes entre le réacteur et les modules de procédé. Le support permet un contrôle précis de la plaquette à la fois verticalement et horizontalement pour compenser les conditions de chargement non uniformes. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 comprend également un ensemble de modules avancés conçus pour améliorer les performances et l'uniformité, notamment : un module d'oxydation haute performance pour des performances contrôlées et des couches ultra lisses ; un module de nitridation à basse température pour exploiter la riche croissance épitaxiale du TDD et du BTI que le processus oxyde ne peut fournir ; et un module de gravure avancé pour des opérations de gravure/nettoyage très précises. Ceci est couplé avec la capacité de contrôler plusieurs variables dans la chambre de dépôt/gravure de l'intérieur de la machine. Ces capacités permettent une homogénéité inégalée et un contrôle total de la structure du dispositif et des dimensions de la microfissure. Le CONCEPT 2 est facilement évolutif, permettant aux clients de basculer entre des procédés d'oxyde, de nitrure ou de métal dans un seul réacteur. Cette flexibilité permet la réalisation d'une plus large gamme de dispositifs microélectroniques de haute qualité et moins coûteux qu'auparavant.