Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9206050 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance et enrichi par plasma conçu pour la fabrication avancée de couches minces. Le réacteur CONCEPT 2 utilise une conception brevetée de tête de douche améliorée par pulvérisation qui assure un dépôt très uniforme de couches minces sur de grands substrats. La conception de la tête de douche améliorée par pulvérisation permet également de déposer des films plus épais à une vitesse plus élevée que ce qui est possible avec une tête de douche classique. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 a un grand volume de chambre de procédé qui permet le dépôt de films plus épais à haut débit. Le réacteur CONCEPT 2 est un système à deux zones qui comprend une chambre principale avec une partie réceptrice de substrat, qui est reliée à une chambre de réaction par un canal de procédé. Le canal de procédé assure un flux continu de gaz de procédé de la chambre de réaction vers la partie réceptrice du substrat. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est équipé d'une source RF haute fréquence et double fréquence qui fournit de l'énergie aux substrats et aux gaz de traitement dans la chambre de réaction. La source RF à double fréquence permet d'ajuster les paramètres plasmatiques pour différents procédés à couches minces. Le réacteur CONCEPT 2 est hautement configurable et peut être adapté à des procédés spécifiques. Il est capable de traiter des plaquettes jusqu'à un diamètre de 300 mm, ce qui en fait un choix idéal pour les applications 3D-IC. Le réacteur offre une souplesse dans le contrôle de la concentration des gaz de procédé et des niveaux de puissance RF. Un système de collecteur de gaz breveté avec contrôle de la rétroaction permet un réglage rapide et précis des débits de gaz et du temps de séjour du gaz dans la chambre de réaction. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est conçu pour répondre aux besoins croissants de la technologie IC moderne. Son débit élevé et sa flexibilité, associés à ses nombreuses lignes d'accessoires, en font un choix attrayant pour une grande variété d'applications en couches minces. CONCEPT 2 offre des fonctionnalités uniques pour optimiser les performances avancées des processus, permettant la fabrication de dispositifs et de circuits haute performance avec des résultats supérieurs. NOVELLUS CONCEPT 2 est un outil fiable et économique avec une faible empreinte pour les applications semi-conductrices. Il offre un haut degré d'automatisation avec contrôle précis des processus, dépôt de haute qualité et uniformité des processus. Ses capacités de métrologie et de diagnostic de pointe maximisent la stabilité et l'efficacité des processus. En outre, son entretien peu coûteux et sa longue durée de vie en font un choix attrayant pour les projets à long terme. CONCEPT 2 est un outil puissant pour le dépôt avancé de couches minces, et est le choix idéal pour la fabrication industrielle dans l'industrie des semi-conducteurs d'aujourd'hui.