Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9212169 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un équipement à moyenne échelle et à basse pression de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production en grand volume de circuits intégrés à couches minces. Il utilise un procédé à chambre unique pour le dépôt d'oxyde et de nitrure, et fournit un débit élevé avec des taux de défauts faibles. CONCEPT 2 offre des performances exceptionnelles avec dix sources de dépôt qui offrent une homogénéité extraordinaire sur la surface du substrat. NOVELLUS CONCEPT 2 est construit avec un flux réactif basse pression, avec des pressions de contrôle spécifiquement conçues pour le dépôt d'oxyde et de nitrure. La chambre a une conception cylindrique fermée avec un processus thermique haute vitesse à deux zones qui utilise un système multi-gaz. Il comporte deux collecteurs de gaz internes qui permettent des flux de gaz totaux plus élevés pour une plus grande homogénéité, et une couche barrière interne optionnelle pour un débit encore plus élevé. Un champ d'énergie RF parabolique précisément contrôlé est utilisé pour ioniser les gaz réactifs. Ceci provoque des réactions à la surface de la plaquette, aboutissant finalement au dépôt d'une couche mince. CONCEPT 2 est équipé d'une unité de distribution de gaz multicomposants à haut débit. Cette machine maintient des pressions réactives contrôlées et offre une excellente homogénéité. NOVELLUS CONCEPT 2 utilise un débitmètre massique latéral auto-aligné pour assurer des régimes de pression stables et répétables et des débits de gaz précis. En outre, la chambre utilise des régulateurs de débit massique séparés et des régulateurs de pression collecteurs pour chaque gaz réactif. Cela permet d'assurer un niveau élevé de contrôlabilité et de précision de l'acheminement des gaz tout au long du processus de dépôt. CONCEPT 2 propose également un outil de chauffage de substrat identique aux principaux systèmes CVD autonomes. Cet atout garantit une homogénéité et une répétabilité de température exceptionnelles pour une variété de types de substrat. Le modèle de chauffage est également réglable, ce qui permet aux utilisateurs d'adapter le profil de température à leurs exigences spécifiques en matière de substrat et de processus. La combinaison de ces fonctionnalités avancées conduit à une amélioration globale du contrôle des processus, ainsi qu'à une amélioration du débit et de la qualité des gravures. Pour améliorer encore la performance des processus, NOVELLUS CONCEPT 2 utilise la technologie avancée de tête de douche. Cette technologie augmente le débit et l'homogénéité en utilisant des vannes de grille indépendantes à chaque orifice de tête de douche, ce qui améliore la distribution des gaz réactifs et évite l'accumulation de sous-produits indésirables. L'ajout de la technologie de tête de douche se traduit par une fenêtre de processus considérablement améliorée et l'uniformité sur toute la surface du substrat. En résumé, CONCEPT 2 est un équipement CVD basse pression conçu pour une grande homogénéité de volume et de substrat supérieur. Il est idéal pour le traitement à grande échelle de circuits intégrés à couches minces. Les caractéristiques avancées du système, telles que la livraison multi-gaz, le champ d'énergie RF parabolique et la technologie de tête de douche, en font un outil puissant et fiable dans l'environnement CVD souvent difficile.