Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9212229 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur à plasma haute densité utilisé pour la gravure dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur à chambre unique de type vertical et a une conception modulaire avec un équipement de contrôle de processus détaillé, permettant une gravure de haute précision des plaquettes. Le système est construit avec une chambre à vide, une unité d'alimentation en gaz, des systèmes d'alimentation RF (radiofréquence) et une machine de surveillance des processus. Le procédé se déroule à l'intérieur d'une chambre métallique, qui est isolée hermétiquement pour maintenir un environnement proche du vide à l'intérieur. Le vide est une condition nécessaire au processus de gravure, et est l'une des exigences fondamentales pour le succès d'un processus de gravure. Les molécules de gaz, en particulier l'oxygène et l'hydrogène, sont utilisées comme graveur et réducteur pour graver le matériau de la surface de la plaquette. Un contrôle précis du flux gazeux et de la formation du plasma est essentiel au succès du processus. Le réacteur utilise une fréquence RF de 13,56 MHz et un niveau de puissance jusqu'à 1500W pour générer une décharge brillante et former des espèces réactives, qui sont utilisées pour graver un motif désiré sur la surface de la plaquette. La puissance RF, le débit de gaz et la température de fonctionnement de l'outil sont contrôlés avec précision par l'actif de contrôle avancé de l'entreprise. Le modèle d'alimentation RF est responsable de l'entraînement du générateur RF. Il assure un contrôle de précision de la puissance d'entrée, assurant une alimentation précise du générateur. L'équipement de distribution de gaz assure un contrôle précis du débit de gaz, permettant un contrôle précis de la composition des gaz de gravure dans le système. La température de l'unité est contrôlée et contrôlée respectivement par un capteur thermique et un régulateur thermique. La machine de surveillance du processus est chargée de surveiller la plaquette pendant le processus de gravure. L'outil permet l'observation en temps réel du processus de gravure, permettant aux opérateurs d'optimiser le processus pour des rendements plus élevés et des rendements plus élevés. CONCEPT 2 est un actif de gravure polyvalent et fiable conçu pour répondre aux exigences les plus rigoureuses de l'industrie des semi-conducteurs. Sa modularité et son contrôle précis des processus garantissent la plus haute qualité de gravure dans l'industrie. La société fournit des solutions complètes de maintenance et de support technique à ses clients, permettant une installation sans soucis et le fonctionnement de son modèle de gravure haute puissance.