Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9235678 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur pour dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un réacteur CVD monocouche, en plusieurs étapes, conçu pour permettre le développement rapide des procédés, la qualification des procédés et une production à haut débit. Le CONCEPT 2 permet la flexibilité et la sélectivité du processus de dépôt en raison de son architecture multichambre unique et de sa large gamme de gaz de processus compatibles avec la chambre. NOVELLUS CONCEPT 2 est un modèle semi-fermé à deux zones. La chambre principale est composée d'une chambre inférieure et d'une chambre supérieure. La chambre supérieure est la chambre de processus principale, où le processus CVD a lieu. Une grande variété de gaz de procédé conformes peuvent être introduits dans la chambre supérieure par deux routeurs à gaz, permettant un contrôle extrêmement précis des composants chimiques dans la chambre et un réglage de la température de la plaquette pendant le processus de dépôt. La chambre inférieure est remplie de gaz d'échange d'humidité qui est conçu pour refouler la chambre pour empêcher l'oxydation et l'accumulation de particules. CONCEPT 2 est équipé d'une gamme de capacités robotiques. Le bras robot est conçu pour déplacer la plaquette de substrat d'une chambre à la chambre suivante, pour l'introduire dans la chambre supérieure, et pour introduire et déplacer d'autres composants tels que des conduites de gaz, des tuyaux de chemise, des chauffages et des boucliers. Le robot est également conçu pour pouvoir mimer les mouvements non symétriques, permettant une flexibilité accrue pour les flux et les procédés chimiques. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est équipé d'un système avancé de contrôle des procédés (APC). L'APC peut être programmé pour effectuer des mouvements précis de la plaquette, du bras robotique et des gaz de procédé. L'APC surveille également les conditions dans le réacteur et dans les gaz de procédé tels que la température, la pression plasmatique et le débit. Ce contrôle permet un haut degré de précision dans les paramètres du processus, améliorant la vitesse et la qualité du processus CVD. En conclusion, le réacteur CONCEPT 2 est un équipement unique, conçu pour contrôler la température, la vitesse et la précision du processus de dépôt chimique en phase vapeur. Sa conception à deux zones et son système avancé de contrôle des processus permettent un développement rapide des processus, la qualification des processus et une production à haut débit.