Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9315487 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9315487
CVD System, 8"
Mainframe
Wafer type: Notch
System and module controller: MC1
SSD
Index robot: Type II
Magnetron 7 Transfer robot
Endpoint detector
Sequel chamber:
Sequel express
DLCM: S0862
Process type: Nitride
IOC Version: 4.2
Gas box configurations:
Gas line / Gas flow (SCCM) / MFC Make / MFC Model
SiH4 / 750 / HORIBA / Z512
N2 / 5000 / UNIT / UFC1661
SiH4 / 350 / HORIBA / Z512
He / 10000 / UNIT / UFC1661
NH3 / 10000 / UNIT / UFC1661
He (Aux) / 1000 / UNIT / UFC1661
NF3 / 5000 / UNIT / UFC1661
N2O / 20000 / UNIT / UFC1661
N2 / 12000 / UNIT / UFC1661
CO2 / 20000 / UNIT / UFC1661
2000 vintage.
Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un équipement de gravure ionique réactive respectueux de l'environnement conçu pour fournir des capacités de gravure précises avec plasma haute densité. Les gaz réactifs sont chauffés pour ioniser le gaz constituant le plasma, ce qui permet d'accélérer le gaz vers une surface métallique. Lorsque les ions réactifs frappent le métal, l'énergie des ions individuels est dépensée pour éliminer les atomes métalliques de la surface. De plus, cela permet une grande maîtrise du procédé de gravure pour créer un substrat uniforme. C'est l'approche adoptée par la solution CONCEPT 2. Le système NOVELLUS CONCEPT 2 permet aux utilisateurs d'atteindre une productivité plus élevée, des délais d'exécution plus longs et un meilleur contrôle des processus. Il est capable de manipuler des couches de toute épaisseur, des films ultra-minces aux structures plus épaisses. Les débits peuvent être ajustés finement en ordre pour créer les structures gravées requises. L'unité comprend plusieurs caractéristiques qui sont conçues pour protéger l'environnement et assurer le plus haut niveau de propreté pendant l'opération. Cela comprend une machine de recyclage de l'air pour filtrer les particules, une deuxième paroi au point d'alimentation pour empêcher les réactifs de fuir dans l'environnement extérieur, ainsi qu'une ligne d'échappement dédiée qui dirige les réactions loin des zones de production. CONCEPT 2 outil est conçu pour être très efficace, fournissant jusqu'à 30 % moins d'étapes de traitement que les autres systèmes RIE. L'ensemble de l'actif, y compris les alimentations et les contrôleurs, sont dimensionnés pour l'application, de sorte que les utilisateurs peuvent personnaliser leur configuration au besoin. Le modèle comprend également une fonction de réglage courant optionnelle qui permet aux utilisateurs d'ajuster les paramètres de puissance afin d'obtenir des résultats idéaux. C'est une fonctionnalité utile car elle permet de gagner du temps et d'améliorer les performances de l'équipement. NOVELLUS CONCEPT 2 est également livré avec un ensemble complet de fonctions de contrôle. Ceux-ci permettent aux utilisateurs de contrôler avec précision les paramètres du procédé, tels que la vitesse de gravure, la température, le débit de gaz et la pression. En outre, le système peut être surveillé et réglé à distance via une interface utilisateur graphique. Ceci permet d'obtenir le résultat de gravure souhaité de manière cohérente. Globalement, CONCEPT 2 est une unité de gravure hautement capable qui offre des caractéristiques de précision et de contrôle avancé. En réduisant considérablement les étapes de traitement et avec ses protocoles de sécurité robustes, NOVELLUS CONCEPT 2 est bien adapté à une variété d'applications, de la gravure en couches minces à la fabrication avancée d'appareils.
Il n'y a pas encore de critiques