Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9315488 à vendre en France
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ID: 9315488
CVD System, 8"
Mainframe
Wafer type: Notch
System and module controller: MC1
SSD
Index robot: Type II
Magnetron 7 Transfer robot
Endpoint detector
Sequel chamber:
Sequel express
DLCM: S1253
Process type: SION
IOC Version: 4.2
Gas box configurations:
Gas line / Gas flow (SCCM) / MFC Make / MFC Model
SiH4 / 750 / HORIBA / Z512
N2 / 5000 / UNIT / UFC1661
SiH4 350 HORIBA / Z512
He / 10000 / UNIT / UFC1661
NH3 / 10000 / UNIT / UFC1661
He (Aux) / 1000 / UNIT / UFC1661
NF3 / 5000 / UNIT / UFC1661
N2O / 20000 / UNIT / UFC1661
N2 / 12000 / UNIT / UFC1661
CO2 / 20000 / UNIT / UFC1661
CE Marked
2001 vintage.
Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un équipement de pointe de gravure chimique qui répond aux besoins du secteur manufacturier en offrant un niveau supérieur de contrôle des procédés et de productivité. Ce système de gravure très réussi a été créé pour offrir les plus hauts niveaux de productivité, de précision et d'assurance qualité. Il est basé sur un design robuste qui combine des fonctionnalités avancées de l'ensemble de fonctionnalités NOVELLUS Concept 1tm, ainsi que d'autres technologies de pointe. Le réacteur CONCEPT 2 est une unité de gravure chimique intégrée qui comprend plusieurs fonctions conçues pour assurer un contrôle et une productivité supérieurs. La machine utilise des caractéristiques techniques avancées qui sont conçues pour assurer une profondeur de gravure constante pour chaque emplacement de motif et pour supporter les opérations de gravure les plus complexes. Son outil de contrôle de la boucle de reprise offre un niveau amélioré de contrôle et de précision des processus, lui permettant de répondre à des exigences exigeantes en production et pour les prototypes. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est conçu pour fonctionner dans un environnement à température contrôlée, allant de 10 ° à 80 ° Celsius, et est idéal pour une utilisation avec une variété de substrats, tels que le silicium, le tungstène, l'or, et d'autres. Ce réacteur comprend également un actif de détection laser qui est utilisé pour identifier et prévenir les dommages au matériau à graver. Le modèle intègre également une variété de capacités de processus qui sont conçus pour améliorer la productivité, comme des niveaux de puissance réglables jusqu'à 2000 W, des paramètres de processus optimisés pour la gravure de détail, la capacité de transférer des paramètres de gravure d'un travail à l'autre, et le support pour plusieurs échantillons par chambre. Les caractéristiques avancées de cet équipement comprennent également la capacité à contrôler avec précision la température in situ du substrat. En outre, le réacteur CONCEPT 2 dispose d'une large gamme de caractéristiques de sécurité, telles qu'un bouton d'arrêt d'urgence, des contacts d'interception et des systèmes de régulation de température. Le réacteur utilise également une gamme de vecteurs chimiques et de capteurs qui sont utilisés pour le dosage précis et la surveillance du processus de gravure. Ce système de gravure très avancé a été conçu pour fournir les niveaux de productivité et de précision les plus élevés, tout en assurant la qualité et la sécurité des produits. En combinant ces caractéristiques de pointe et des capacités de contrôle de processus supérieures, le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 convient à tous les environnements de production.
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