Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9316802 à vendre en France

Fabricant
NOVELLUS
Modèle
CONCEPT 2
ID: 9316802
CVD System TEOS Cabinet.
NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour déposer du nitrure de silicium, de l'oxyde de silicium et d'autres films diélectriques et barrières. Il est utilisé dans les procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que les interconnexions de cuivre, les barrières de diffusion et les couches de protection. Le réacteur CONCEPT 2 est capable de fournir des performances et une fiabilité supérieures aux méthodes traditionnelles grâce à sa conception innovante et à ses composants de haute qualité. Les réacteurs NOVELLUS CONCEPT 2 utilisent une chambre de réaction rectangulaire, un porte-substrat de bateau en wafer et un système de distribution de gaz avancé pour fournir un processus CVD efficace. Ce système est alimenté par un logiciel et un contrôleur avancés pour maximiser l'efficacité du processus CVD. Le réacteur CONCEPT 2 est équipé d'une source de pulvérisation magnétron à trois électrodes, d'une source à plasma continu, d'une source à basse tension (LV) et d'une source à haute tension (HV). La source de pulvérisation magnétron assure un dépôt uniforme de couches minces de nitrures et d'oxydes tandis que la source de plasma DC est utilisée pour des couches planarisées de nitrure et d'oxyde. Les sources de VL et de VH offrent des fonctionnalités supplémentaires, notamment le dépôt chimique en phase vapeur (PECVD), la silicisation et le placage ionique. Pour protéger les substrats de la contamination, le réacteur CVD NOVELLUS CONCEPT 2 est conçu avec plusieurs caractéristiques qui assurent un dépôt propre et uniforme. Premièrement, le module de protection Jetfilm exclusif isole le processus de dépôt des contaminants de la chambre et empêche la rétrotransmission des espèces contenant du fluor. Le réacteur utilise également des ascenseurs filtrés à haut rendement, des systèmes de chargement des plaquettes à basse température et des chauffages résistants à la corrosion pour minimiser l'accumulation d'impuretés à l'intérieur de la chambre. Le CONCEPT 2 est également conçu avec des automatismes et des commandes de haute précision pour garantir des performances de processus fiables. Il fournit un système de positionnement robuste et précis du bateau de wafer, des capacités d'exécution de recette avancées, et plusieurs fonctionnalités pour assurer l'uniformité et la répétabilité du processus de dépôt. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un outil très polyvalent capable de répondre à toutes les exigences des appareils pour des applications de pointe en diélectrique et en barrière.
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