Occasion NOVELLUS CONCEPT 2 #9408537 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la fabrication en grand volume de procédés de dépôt en couches minces. Elle est particulièrement adaptée aux applications multicouches en couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs. CONCEPT 2 utilise une technologie de traitement dynamique avec un certain nombre de caractéristiques uniques pour fournir des performances de pointe de l'industrie. La structure de NOVELLUS CONCEPT 2 est un bâtiment monobloc en acier inoxydable qui est doublé d'une « solution » corrosive pour fournir un traitement efficace et rentable. Le réacteur utilise des zones de chauffage indépendantes pour obtenir un traitement efficace et répétable des matériaux. Chaque zone dispose de capacités de chauffage et de refroidissement indépendantes pour assurer un contrôle précis du processus. Le CONCEPT 2 dispose également d'un équipement de rétroaction en boucle fermée qui permet de contrôler en temps réel le processus de dépôt. Ce système permet un contrôle précis de la température et de la pression dans la chambre, et avec l'utilisation d'un moniteur de vitesse de dépôt in situ, il est en mesure de contrôler avec précision la vitesse de dépôt. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 assure une protection optimale de la chambre afin de maintenir la propreté et d'éviter toute contamination des surfaces de la chambre. Il dispose de deux vannes d'isolement, de deux joints toriques et de deux joints isolés pour isoler la chambre des atmosphères extérieures, ainsi que d'une unité spéciale d'émission de poussières pour réduire les niveaux de poussières et de particules produites pendant le fonctionnement. CONCEPT 2 offre des conditions de processus très précises pour des résultats reproductibles et fiables. Il contrôle automatiquement la pression de la machine, la température, et d'autres paramètres assurant des conditions correctes pour la précision du dépôt et les rendements. Il utilise une architecture multi-zones pour un contrôle uniforme et précis des taux de dépôt. L'outil dispose également de rétroaction de données en temps réel, permettant un contrôle beaucoup plus précis que ce qui est possible avec d'autres technologies de réacteur CVD. En outre, NOVELLUS CONCEPT 2 dispose d'une fonction d'exploitation facile pour assurer un fonctionnement économique et efficace de l'actif avec un minimum d'entretien. Cela comprend le chargement et le déchargement automatiques des plaquettes, les systèmes de contrôle de la température et de la pression, et un moniteur de vitesse in situ intégré. En outre, CONCEPT 2 est compatible avec plusieurs technologies sources différentes, permettant des capacités incroyablement polyvalentes. Dans l'ensemble, le réacteur NOVELLUS CONCEPT 2 est un excellent choix pour des procédés de dépôt précis, reproductibles et fiables en couches minces. Sa technologie de traitement dynamique, sa protection supérieure des chambres, ses zones de chauffage indépendantes et ses systèmes de rétroaction en temps réel en font le choix idéal pour les applications à haut volume dans l'industrie des semi-conducteurs.